阿拉丁材料科學試劑包括替代能源、生物材料、金屬與陶瓷材料、納米材料、有機與印刷電子材料、高分子材料、有機/無機雜化材料、3D生物打印材料等。阿拉丁材料科學試劑品類中的納米材料--油溶性CdSe 量子點,采用不同以往的先進生產工藝生產,具有極好的光學穩定性和化學穩定性,實驗重復性強。建議激發波長400nm以下。可普遍用于LED光源、照明、顯示、太陽能電池及流體動力學等領域。 ● 顆粒均勻、半峰寬窄,色純度高 ● 色譜全:發射光譜從525nm~645nm可調,熒光顏色范圍覆蓋可見光區 ● 穩定性好:具有極好的化學穩定性和光學穩定性,質量穩定可靠 ● 色差小:批次之間熒光光譜峰值誤差小于2nm。根據材料與生物體接觸部位分為:血液相容性:材料用于心血管系統與血液接觸,主要考察與血液的相互作用。3a,4,7,7a-四氫茚(含穩定劑BHT) CAS:3048-65-5
上海阿拉丁生化科技股份有限公司,是專業的阿拉丁材料科學試劑供應商。阿拉丁材料科學試劑中的替代能源是指,技術上可行,經濟上合理,環境和社會可以接受,能確保供應和替代常規化石能源的可持續發展能源體系。它們既包括可再生能源,如風能、太陽能、生物質能、水能、海洋能等,也包括不可再生能源,如地熱能、核能、氫能。生物材料:用于與生命系統接觸和發生相互作用的,并能對其細胞、組織和身體部位進行診斷療養、替換修復或誘導再生的一類天然或人工合成的特殊功能材料,又稱生物醫用材料。生物材料包括金屬材料(如堿金屬及其合金等)、無機材料(生物活性陶瓷,羥基磷灰石等)和有機材料三大類。3a,4,7,7a-四氫茚(含穩定劑BHT) CAS:3048-65-5采用生物工程技術,使育種工作發生了很大變化。
材料科學試劑品類中的高分子材料包括塑料、橡膠、纖維、薄膜、膠粘劑和涂料等。現代工程技術的發展推動了高分子材料向高性能化、功能化和生物化方向發展,這樣就出現了許多產量低、價格高、性能優異的新型高分子材料。如高分子分離膜是用高分子材料制成的具有選擇性透過功能的半透性薄膜。高分子磁性材料是人類在不斷開拓磁與高分子聚合物。光功能高分子材料是指能夠對光進行透射、吸收、儲存、轉換的一類高分子材料。高分子復合材料是高分子材料和另外不同組成、不同形狀、不同性質的物質復合粘結而成的多相材料。
阿拉丁材料科學試劑品類中的磷鎢酸水合物可用作染色劑,用于十六烷基三甲基溴化銨(CTAB)包被金納米棒的透射電子顯微鏡(TEM)成像。它可用于制備:·磷鎢酸摻雜的有機改性硅酸鹽雜交網絡。負載型磷鎢酸(PTA)催化劑。·二氧化鈦(TiO2)納米顆粒/磷鎢酸(HPW)薄膜。氫氧化鉀:具強堿性及腐蝕性。極易吸收空氣中水分而潮解,吸收二氧化碳而成碳酸鉀。溶于約0.6份熱水、0.9份冷水、3份乙醇、2.5份甘油。當溶解于水、醇或用酸處理時產生大量熱量。0.1mol/L溶液的pH為13.5。中等毒,半數致死量(大鼠,經口)1230mg/kg。溶于乙醇,微溶于醚。有極強的堿性和腐蝕性,其性質與燒堿相似。只有通過基因工程對生物進行改造,才有可能按人類的愿望生產出更多更好的生物產品。
阿拉丁材料科學試劑品類中的電子材料--氫氧化鉀,具強堿性及腐蝕性。極易吸收空氣中水分而潮解,吸收二氧化碳而成碳酸鉀。溶于約0.6份熱水、0.9份冷水、3份乙醇、2.5份甘油。當溶解于水、醇或用酸處理時產生大量熱量。0.1mol/L溶液的pH為13.5。中等毒,半數致死量(大鼠,經口)1230mg/kg。溶于乙醇,微溶于醚。有極強的堿性和腐蝕性,其性質與燒堿相似。酸堿中和調節溶液pH值。基本化學試劑,二氧化碳吸收劑。皂化劑。磷酸:溶于水及醇。純品磷酸為無色斜方晶體,富潮解性。溶于水和乙醇。其酸性較硫酸、鹽酸和硝酸等強酸為弱,但較醋酸、硼酸等弱酸為強。能刺激皮膚引起發炎及破壞肌體組織。性能要求:生物相容性:生物相容性主要包括血液相容性、組織相容性。4'-己基苯乙酮 CAS:37592-72-6
替代能源是指,技術上可行,經濟上合理,環境和社會可以接受,能確保供應和替代常規化石能源的。3a,4,7,7a-四氫茚(含穩定劑BHT) CAS:3048-65-5
阿拉丁材料科學試劑包括替代能源、生物材料、金屬與陶瓷材料、納米材料、有機與印刷電子材料、高分子材料、有機/無機雜化材料、3D生物打印材料等。阿拉丁材料科學試劑品類中的電子材料--正硅酸四乙酯 Silicon tetraacetate,電子級,99.999999% metals basis,別名 乙酸硅;四醋酸硅,CAS編號 562-90-3,分子式 C8H12O8Si,分子量 264.261,需-20°C儲存,冰袋運輸。產品理化性質:無色透明液體,熔點-77℃,沸點168.5℃,密度0.9346g/ml。它對空氣較穩定;微溶于水,在純水中水解緩慢;在酸或堿的存在下能加速水解作用。產品用途:主要用于晶圓制造過程中的化學氣相沉積(CVD)制程,用于生成二氧化硅薄膜。是半導體、分立器件、微機電系統(MEMS)制造所需的電子化學品。是硅烷及其他易燃硅源的替代品。3a,4,7,7a-四氫茚(含穩定劑BHT) CAS:3048-65-5
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