勻膠顯影機是完成除曝光以外的所有光刻工藝的設備，包括光刻材料的涂布、烘烤、顯影、晶圓背面的清洗以及用于浸沒式工藝的晶圓表面的去離子水沖洗等。勻膠顯影機一般由四部分組成。***部分是晶圓盒工作站（wafer cassette station），晶圓盒在這里裝載到機器上。機械手（robot arm）從晶圓盒中把晶圓抽出來，傳送到工藝處理部分（process block），即第二部分。工藝處理部分是勻膠顯影機的主體，增粘模塊（adhesion enhancement）、熱盤（hot plate）、冷盤（chill plate）、旋涂、顯影等主要工藝單元都安裝在這里，一個或兩個機械手在各單元之間傳遞晶圓。第三部分是為浸沒式光刻工藝配套的單元，包括晶圓表面水沖洗單元、背清洗單元等。第四部分是和光刻機聯機的接口界面（interface），包括暫時儲存晶圓的緩沖盒（buffer）、晶圓邊緣曝光（wafer edge exposure，WEE）和光刻機交換晶圓的接口等。 [1]在顯影過程中，顯影液會逐漸損耗降低顯影性能，所以需要及時補充(開機補充，靜態補充，動態補充)。南通定制涂膠顯影機直銷價

顯影偏壓顯影偏壓由高壓板產生，并施加于顯影輥，用以提供圖像對比度。例如：顯影套筒的偏壓由交流電（AC）提供，如京瓷KM-1650機器：顯影偏壓Vp-p：所施加電壓的最大值和最小值之差；固定高壓：1.6kV；Vf：頻率；一般為2.7kHz，該值根據驅動時間預設值和環境校正的不同而不同；占空比：一個周期內正電壓所占的時間比例一般為45%；Vdc：顯影偏壓290V；Vo：感光鼓表面非圖像區域（未曝光區）的電壓；VL：感光鼓表面圖像區域（曝光區）的電壓。 [2]錫山區定制涂膠顯影機廠家直銷定期更換保護膠并清洗保護膠系統(建議每天一次)；

3）磁穗刮板：磁穗刮板控制顯影套筒（磁輥）輸送的顯影劑的量，這樣顯影劑磁穗將與感光鼓表面恰當接觸。4）攪拌輪：顯影劑混合時會產生墨粉和載體的摩擦。因為載體充上正電荷，而墨粉會充上負電荷，從而通過摩擦產生的靜電會將充電的載體和墨粉依附在鼓表面。5）ATDC（磁通密度傳感器/自動墨粉傳感器）：顯影劑中的載體與墨粉（即墨粉濃度）應保持固定的比例，從而才能打印出正常的圖像。ATDC通過磁橋電路檢測顯影劑中的墨粉的比率。當傳感器探測到墨粉量不足時，它會驅動墨粉電機從墨粉盒中添加新粉。

4 **小執行單位：X軸1μM，Z軸1μM。5 有***值編程（G90）和增量值編程（G91），軟限位（G67和G68）。6 有宏指令和參數編程。CNC有極強的二次開發能力和高度開放的PLC功能。7 由于采用高速CPU和段預讀功能，保持程序段間無停頓，連續勻速運動。8 用口令來***對機械數據的操作和程序輸入，輸出，刪除，復制，CNC的操作非常簡便。CNC硬件上的優點：1 CNC是雙CPU。一個是工業用MOTOROLA公司的M68000系列32位單片機。它用于各種插補運算。一個是Z80單片機。它用于圖形和鍵盤功能。定期清洗加熱段導軌(每周一次)；

沖洗系統沖洗系統主要是由兩組噴淋管向版面正反面噴淋清水，以除去附著在版面上的顯影生成物和多余的顯影液，并通過擠壓輥擠去版面上的水分；同時具備二次水洗功能。涂膠系統涂膠系統主要功能是在顯影后的版面上涂上一層均勻的保護膠。干燥系統干燥系統由送風管和膠輥組成，通過吹風和加熱使印版迅速干燥，***將印版送出。顯影液配置顯影液配置需參考顯影液說明書和印版說明書，一般推薦使用印版廠家配送的顯影藥液，配置出的顯影液必須保證不同厚度版材的顯影寬容度。涂膠顯影機（track）是一種用于半導體制造過程中光刻工藝的關鍵設備。錫山區定制涂膠顯影機廠家直銷

定期徹底清洗膠輥，保證各膠輥之間壓力均勻(每周一次)；南通定制涂膠顯影機直銷價

顯影機一般由傳動系統、顯影系統、沖洗系統、烘干系統、程序控制系統等部分組成。傳動系統傳動系統是引導印版運行的驅動裝置。是由電機通過蝸輪蝸桿或鏈輪鏈條帶動傳送輥轉動，并通過對壓膠輥驅動使印版通過顯影機的各個工作環節。顯影系統印版顯影過程中，經過循環顯影液均勻、連續地噴淋，將印版空白部位的感光層迅速溶解，有的顯影機還加有刷輥刷洗，加速這種溶解。為了保證顯影液在恒定條件下工作，此部分還有加熱器和冷卻器，可自動調節溫度（一般控制在25℃左右）。藥液自動循環過濾，保證各處藥液濃度和溫度均勻一致。南通定制涂膠顯影機直銷價

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