氦檢儀具有性能穩定、靈敏度高的特點。靈敏度、反應時間、清零時間、工作真空度、極限真空度及儀器入口處抽速是評價氦檢儀的主要性能指標。檢測氣體使用氦氣的主要原因如下:(1)對人體和自然環境沒有毒害;(2)不能燃燒,作業安全;(3)惰性氣體,和被檢測對象不會發生化學反應;(4)分子直徑和質量小,容易穿過微小縫隙,便于檢漏;(5)通常環境下保持氣體狀態,不會堵住微漏孔;(6)真空腔體自身放出的氣體中幾乎不包含氦氣;(7)氦氣在空氣中的存在量只為5ppm,容易定點查清漏氣位置。由于氦氣比空氣輕很多,向真空腔體噴氦氣檢漏時要從上往下依次操作,否則不利于判定漏點所在。當腔體構造復雜,或漏率極小時,可針對重點部位用塑料袋套住,然后向塑料袋內部充入氦氣,實現對特定重點部位的檢漏。氦質譜檢漏儀是根據被檢工件的不同它所使用的檢漏方法也是不同的。無錫智能氦質譜檢漏儀價格
氦檢儀的組成部分有哪些?真空系統,儀器的真空系統提供質譜正常工作所需要的真空條件,不同型號的氦檢儀其真空系統有較大的差別。真空系統一般包括:1)主泵。一般用擴散泵或渦輪分子泵。極限壓力小于5×10-1Pa,其抽速應與氣載匹配。2)前級真空泵。一般采用旋片式機械真空泵,在以分子示為主泵的系統中,也有采用薄膜泵或干泵的。抽速與主泵匹配。3)預抽真空泵。一般與前級真空泵共同一個泵,預抽真空泵一般采用旋片式機械真空泵,其抽速視被檢件大小而定,因此預抽真空泵大都由用戶自配。浙江小型氦質譜檢漏儀供應廠家在結構組成上,大部分氦檢儀就是由質譜室、真空系統以及電氣系統3部分組成的;
氦檢儀現已普遍應用于半導體設備檢漏。半導體設備及材料需要檢漏原因:1、半導體設備要求高真空,比如磁控濺射臺、電子束蒸發臺、ICP、PECVD等設備。出現泄漏就會導致高真空達不到或需要大量的時間,耗時耗力;2、在高真空環境潔凈度高、水蒸氣很少。一旦出現泄漏周圍環境中的灰塵和懸浮顆粒或塵埃就會對晶元造成污染,對半導體的特性改變并破壞其性能,因此在半導體器件生產過程中必須進行氦質譜檢漏;3、一些半導體設備要用到有毒或有腐蝕性的特殊氣體,經過氦質譜檢漏后,在低漏率真空條件下,這些氣體不易外泄,設備能及時抽走未反應氣體和氣態反應產物,保障工作人員安全和大氣環境。4、芯片封裝,一旦出現泄漏,芯片就會失效。綜上所述,氦檢儀在半導體行業起著至關重要的作用。
氦檢儀靈敏度降低應該如何維護?當發現氦檢儀的靈敏度降低,而氦檢儀的工作真空度狀態良好,放大器的各級工作電壓也符合標準要求,就基本上可以確定氦檢儀靈敏度降低的問題來源于離子源的質譜分析管受到了嚴重污染。這個時候,就需要將氦檢儀的離子源分析管道拆下來進行徹底的清洗。具體的清洗方法如下:先用細的高標號金相砂紙小心細致地擦洗分析管道的內表面及離子源各電極部件,這里不能用粗砂紙,因為粗砂紙容易損傷真空分析管道及離子源的各電極部件;然后用航空汽油和無水乙醇清洗,并用去離子水沖洗干凈;較后用烘箱或電吹風進行干燥。整個清洗過程中需要注意,分析管道上的磁鐵不能撞擊、不能受熱,否則可能導致磁鐵退磁,使氦檢儀的靈敏度降低。如果操作正確,經過清洗維護后的氦檢儀的靈敏度可比清洗前提高2~3倍。氦質譜檢漏儀是對比性測試儀器。
提高氦質譜檢漏儀靈敏度方法:1、盡量開大節流閥。2、盡量減小外接泵對工件的分流或采用不分流檢漏(當工件抽上真空后,關閉工件與外接泵之間的閥門)。3、將工件用塑料袋包扎,袋內再充入氦氣,(但此法不能測出具體漏點)。4、使用液氮,全開節流閥,采用不分流檢漏,必要時可將抽速閥關小。氦質譜檢漏儀日常維護:1、定期更換燈絲,清洗冷規。2、定期更換機械泵油,適時對機械泵加油。3、如加液氮,需定期清洗冷阱。4、拆卸氦質譜檢漏儀部件后,安裝時要避免安裝處出現泄漏。5、適時對氦質譜檢漏儀可能出現的泄漏處(如放氣閥)進行清洗,排除漏點。氦檢儀現已普遍應用于半導體設備檢漏。浙江小型氦質譜檢漏儀供應廠家
氦質譜檢漏儀應按照說明書的要求定期進行保養。無錫智能氦質譜檢漏儀價格
氦質譜檢漏儀用氦氣或者氫氣作示漏氣體,以氣體分析儀檢測氦氣而進行檢漏的質譜儀。氦氣的本底噪聲低,分子量及粘滯系數小,因而易通過漏孔并易擴散;另外,氦系惰性氣體,不腐蝕設備,故常用氦作示漏氣體。將這種氣體噴到接有氣體分析儀(調整到只對氦氣反應的工作狀態)的被檢容器上,若容器有漏孔,則分析儀即有所反應,從而可知漏孔所在及漏氣量大小。氦質譜檢漏儀可以對具有內腔的微電子或半導體器件封裝的氣密性進行細檢漏。此檢測方法使用的示蹤氣體選擇了氦氣,氦氣具有質量數小重量輕并且有滲透能力強的優點,達到了細檢漏的目的。無錫智能氦質譜檢漏儀價格
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