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天津氮化鈦TIN涂層硬度涂層的分類根據(jù)涂層方法不同，涂層刀具可分為化學(xué)氣相沉積（ChemicalVapourDeposition，簡稱CVD）涂層刀具、（PhysicalVapourDepositon，簡稱PVD）涂層刀具及混合工藝及組合技術(shù)。CVD涂層原理如圖1a所示，PVD涂層原理如圖1b所示。混合工藝是等離子輔助CVD技術(shù)與傳統(tǒng)的PVD技術(shù)進(jìn)行有效的結(jié)合。比如先沉積傳統(tǒng)的CrN硬質(zhì)涂層，再在**上面沉積一層用于減少摩擦的DLC涂層。組合技術(shù)是涂層前對工具或零部件的表面層進(jìn)行氮化，可以提高涂層的功效。深圳TiN 涂層加工服務(wù)!天津氮化鈦TIN涂層硬度涂層根據(jù)涂層刀具基體材料的不同，涂層刀具可分為硬質(zhì)合金涂層刀具、...
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青島高鋁鈦硅涂層加工
PVD技術(shù)不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結(jié)合強度，涂層成分也由初代的TiN發(fā)展為TiC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、CNx、DLC和ta－C等多元復(fù)合涂層。[2]增強型磁控陰極弧：陰極弧技術(shù)是在真空條件下，通過低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態(tài)，從而完成薄膜材料的沉積。增強型磁控陰極弧利用電磁場的共同作用，將靶材表面的電弧加以有效地控制，使材料的離化率更高，薄膜性能更加優(yōu)異。過濾陰極弧：過濾陰極電弧(FCA)配有高效的電磁過濾系統(tǒng)，可將離子源產(chǎn)生的等離子體中的宏觀粒子、離子團(tuán)過濾干凈，經(jīng)過磁過濾后沉積粒子的離化率為100%，并且可以過濾掉大顆粒...