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Dimension-Labs 掃描狹縫式光斑分析儀系列以國內(nèi)的刀口 / 狹縫雙模式切換技術為，覆蓋 190-2700nm 全光譜，可測 2.5μm 至 10mm 光束直徑。其 0.1μm 超高分辨率突破傳統(tǒng)設備極限，捕捉亞微米級光斑細節(jié)。 技術優(yōu)勢： 雙模式智能適配：軟件自主切換刀口 / 狹縫模式，解決 < 20μm 極小光斑與 10mm 大光斑的測量難題 高功率安全檢測：創(chuàng)新狹縫物理衰減機制，無需外置衰減片即可直接測量近 10W 激光 超分辨率成像：基于狹縫掃描原理，完整還原光斑能量分布，避免特征丟失 設備內(nèi)置正交狹縫轉動輪，通過旋轉掃描同步采集 XY 軸數(shù)據(jù)，經(jīng)算法處理輸出 20 + 光束...

光斑分析儀通過光學傳感器將光斑能量分布轉化為電信號，結合算法分析實現(xiàn)光束質(zhì)量評估。Dimension-Labs 產(chǎn)品采用雙技術路線：掃描狹縫式通過 0.1μm 超窄狹縫逐行掃描，實現(xiàn) 2.5μm 至 10mm 光斑的高精度測量；相機式則利用面陣傳感器實時成像，支持 200-2600nm 全光譜覆蓋。全系標配 M2 因子測試模塊，結合 BeamHere 軟件，可自動計算發(fā)散角、橢圓率等參數(shù)，并生成符合 ISO 11146 標準的測試報告。 產(chǎn)品優(yōu)勢： 滿足測試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測試模塊 精心設計的分析軟件 軟件真正做到交互友好，簡單易用，一鍵輸出測...

相機式與狹縫式光斑分析儀對比指南 光斑分析儀的選擇需基于應用場景的光斑尺寸、功率、脈沖特性及形態(tài)復雜度： 1. 光斑尺寸 相機式：受限于 sensor 尺寸（≤10mm），小光斑為 55μm（10 倍 5.5μm 像元）。 狹縫式：刀口模式可測小 2.5μm 光斑，適合亞微米級檢測。 2. 功率范圍 相機式： 6 片衰減片（BeamHere 標配），可測 1W，需控制功率 < 10μW/cm2。 狹縫式：狹縫物理衰減機制支持近 10W 直接測量，無需外置衰減片。 3. 脈沖激光 相機式：觸發(fā)模式同步捕獲完整單脈沖光斑，兼容性強。 狹縫式：需匹配掃描頻率與激光重頻，易丟失脈沖信息。 4. 光斑形...

維度光電推出的 BeamHere 光斑分析儀系列提供高性價比光束質(zhì)量檢測解決方案，涵蓋掃描狹縫式、相機式及 M2 測試模塊三大產(chǎn)品線： 掃描狹縫式光斑分析儀采用國內(nèi)的刀口 / 狹縫雙模式切換技術，支持 190-2700nm 寬光譜范圍，可測量 2.5μm-10mm 光束直徑，0.1μm 超高分辨率實現(xiàn)亞微米級光斑細節(jié)捕捉。創(chuàng)新狹縫物理衰減機制使其無需外置衰減片即可直接測量近 10W 高功率激光，適用于激光加工等高能量場景。 相機式光斑分析儀覆蓋 400-1700nm 波段，支持 2D/3D 實時成像與動態(tài)分析，可測量非高斯光束（如平頂、貝塞爾光束）。獨特的六濾光片轉輪設計實現(xiàn)功率范圍擴展，可拆...

Dimension-Labs 正式發(fā)布符合 ISO11146 標準的 Beamhere 光斑分析解決方案。該系統(tǒng)通過硬件與軟件協(xié)同工作，可測量光斑能量分布、發(fā)散角及 M2 因子等參數(shù)。產(chǎn)品內(nèi)置光束整形評估模塊，可對聚焦光斑形態(tài)、準直系統(tǒng)性能進行量化檢驗。用戶可根據(jù)需求擴展 M2 測試功能，實現(xiàn)光束傳播方向上的束腰位置定位與發(fā)散角動態(tài)分析。所有檢測數(shù)據(jù)均通過軟件進行智能處理，一鍵生成包含 20 + 參數(shù)的標準化測試報告。 產(chǎn)品優(yōu)勢： 滿足測試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測試模塊 精心設計的分析軟件 軟件真正做到交互友好，簡單易用，一鍵輸出測試報告。可用于自動...

光斑分析儀通過光學傳感器將光斑能量分布轉化為電信號，結合算法分析實現(xiàn)光束質(zhì)量評估。Dimension-Labs 產(chǎn)品采用雙技術路線：掃描狹縫式通過 0.1μm 超窄狹縫逐行掃描，實現(xiàn) 2.5μm 至 10mm 光斑的高精度測量；相機式則利用面陣傳感器實時成像，支持 200-2600nm 全光譜覆蓋。全系標配 M2 因子測試模塊，結合 BeamHere 軟件，可自動計算發(fā)散角、橢圓率等參數(shù)，并生成符合 ISO 11146 標準的測試報告。 產(chǎn)品優(yōu)勢： 滿足測試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測試模塊 精心設計的分析軟件 軟件真正做到交互友好，簡單易用，一鍵輸出測...

Dimension-Labs 針對高功率激光檢測難題推出 BeamHere 大功率光束取樣系統(tǒng)，突破傳統(tǒng)面陣傳感器在 10μW/cm2 飽和閾值的限制，通過創(chuàng)新狹縫物理衰減機制實現(xiàn) 10W 級激光直接測量，配合可疊加的單次（DL-LBA-1）與雙次（DL-LBA-2）取樣配件形成多級衰減方案，衰減達 10??，可測功率超 1000W。該系統(tǒng)采用 45° 傾斜設計的單次取樣配件支持 4%-5% 取樣率，雙次配件內(nèi)置雙片透鏡實現(xiàn) 0.16%-0.25% 取樣率，均配備 C 口通用接口和鎖緊環(huán)結構，支持任意角度入射光束檢測。其優(yōu)化設計的 68mm（單次）和 53mm（雙次）取樣光程確保聚焦光斑完整投...

Dimension-Labs 掃描狹縫式光斑分析儀系列以國內(nèi)的刀口 / 狹縫雙模式切換技術為，覆蓋 190-2700nm 全光譜，可測 2.5μm 至 10mm 光束直徑。其 0.1μm 超高分辨率突破傳統(tǒng)設備極限，捕捉亞微米級光斑細節(jié)。 技術優(yōu)勢： 雙模式智能適配：軟件自主切換刀口 / 狹縫模式，解決 < 20μm 極小光斑與 10mm 大光斑的測量難題 高功率安全檢測：創(chuàng)新狹縫物理衰減機制，無需外置衰減片即可直接測量近 10W 激光 超分辨率成像：基于狹縫掃描原理，完整還原光斑能量分布，避免特征丟失 設備內(nèi)置正交狹縫轉動輪，通過旋轉掃描同步采集 XY 軸數(shù)據(jù)，經(jīng)算法處理輸出 20 + 光束...

維度光電-BeamHere光斑分析儀通過測量光束質(zhì)量參數(shù)，為激光技術在多領域的高效應用提供支撐。在工業(yè)加工領域，其亞微米級光斑校準能力有效優(yōu)化切割、焊接及打標工藝，確保光束輪廓的一致性，從而保障加工質(zhì)量。在醫(yī)療領域，該設備用于眼科準分子激光手術設備的校準，實時監(jiān)測光束能量分布，確保手術的安全性。在科研場景中，它支持皮秒級脈沖激光測量，為物理與材料提供高精度數(shù)據(jù)，推動新型激光器件的。在光通信領域，該分析儀能夠實現(xiàn)光纖端面光斑形態(tài)分析，保障光信號傳輸?shù)姆€(wěn)定性。在農(nóng)業(yè)與生命領域，通過分析激光誘變育種的光束參數(shù)，優(yōu)化植物生長調(diào)控的效率。全系產(chǎn)品覆蓋200-2600nm寬光譜范圍，支持千萬級功率測量，結...

Dimension-Labs 針對高功率激光檢測難題推出 BeamHere 大功率光束取樣系統(tǒng)，突破傳統(tǒng)面陣傳感器在 10μW/cm2 飽和閾值的限制，通過創(chuàng)新狹縫物理衰減機制實現(xiàn) 10W 級激光直接測量，配合可疊加的單次（DL-LBA-1）與雙次（DL-LBA-2）取樣配件形成多級衰減方案，衰減達 10??，可測功率超 1000W。該系統(tǒng)采用 45° 傾斜設計的單次取樣配件支持 4%-5% 取樣率，雙次配件內(nèi)置雙片透鏡實現(xiàn) 0.16%-0.25% 取樣率，均配備 C 口通用接口和鎖緊環(huán)結構，支持任意角度入射光束檢測。其優(yōu)化設計的 68mm（單次）和 53mm（雙次）取樣光程確保聚焦光斑完整投...

如何使用光斑分析儀 Step 1 準備設備 將 BeamHere 光斑分析儀固定在光具座上，調(diào)整高度使激光束中心與 sensor 靶面重合。用 Type-C 線連接分析儀與電腦，打開 BeamHere 軟件等待設備識別。 Step 2 采集數(shù)據(jù) 開啟激光器預熱 10 分鐘，點擊軟件 "開始采集" 按鈕。實時觀察 2D 成像界面，確保光斑無過曝或欠曝，可通過轉輪調(diào)節(jié)衰減片至合適狀態(tài)。 Step 3 分析參數(shù) 在 "高級分析" 模塊勾選所需參數(shù)，軟件自動計算光斑尺寸（±0.5μm 精度）、能量均勻性（CV 值）及光束質(zhì)量因子。3D 視圖支持手勢縮放，便于觀察高階橫模分布。 Step 4 驗證結果 ...

Dimension-Labs 維度光電相機式光斑分析儀系列覆蓋 400-1700nm 寬光譜范圍，實現(xiàn)可見光與近紅外波段光斑的實時檢測。其優(yōu)勢包括： 動態(tài)分析能力 支持 2D 光斑實時成像與 3D 功率分布動態(tài)顯示，高幀率（100fps）連續(xù)測量模式可捕捉光斑瞬態(tài)變化，3D 視圖支持任意角度旋轉分析，為光學系統(tǒng)調(diào)試提供直觀數(shù)據(jù)支持。 復雜光斑適應性 基于面陣傳感器技術，可測量非高斯光束（如平頂、貝塞爾光束）及含高階橫模的復雜光斑，突破傳統(tǒng)掃描式設備的局限性。 功率調(diào)節(jié) 標配 6 片不同衰減率的濾光片（0.1%-100%），通過轉輪結構實現(xiàn)一鍵切換，可測功率達 10W/cm2，滿足從弱光器件到高...

維度光電BeamHere 光斑分析儀通過三大價值賦能激光應用： 效率提升：全自動化檢測流程（10 秒完成參數(shù)采集 + 1 分鐘生成報告），幫助企業(yè)將光束調(diào)試周期縮短 80% 成本優(yōu)化：雙技術方案覆蓋全尺寸光斑，避免多設備購置，典型客戶設備采購成本降** 65% 質(zhì)量升級：0.1μm 超高分辨率與 M2 因子分析，助力醫(yī)療激光設備能量均勻性提升至行業(yè) ±1.2% 典型應用場景： 工業(yè)：激光切割光束實時校準，減少 25% 的材料損耗 醫(yī)療：眼科激光手術光斑能量監(jiān)測，保障臨床安全性 科研：超快激光脈沖特性，推動新型激光器發(fā)散較大，怎么測量光束質(zhì)量？激光聚焦直徑光斑分析儀光斑分析儀維度光電光束質(zhì)量測量...

Dimension-Labs 正式發(fā)布符合 ISO11146 標準的 Beamhere 光斑分析解決方案。該系統(tǒng)通過硬件與軟件協(xié)同工作，可測量光斑能量分布、發(fā)散角及 M2 因子等參數(shù)。產(chǎn)品內(nèi)置光束整形評估模塊，可對聚焦光斑形態(tài)、準直系統(tǒng)性能進行量化檢驗。用戶可根據(jù)需求擴展 M2 測試功能，實現(xiàn)光束傳播方向上的束腰位置定位與發(fā)散角動態(tài)分析。所有檢測數(shù)據(jù)均通過軟件進行智能處理，一鍵生成包含 20 + 參數(shù)的標準化測試報告。 產(chǎn)品優(yōu)勢： 滿足測試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測試模塊 精心設計的分析軟件 軟件真正做到交互友好，簡單易用，一鍵輸出測試報告。近場光斑測...

光斑分析儀通過光學傳感器將光斑能量分布轉化為電信號，結合算法分析實現(xiàn)光束質(zhì)量評估。Dimension-Labs 產(chǎn)品采用雙技術路線：掃描狹縫式通過 0.1μm 超窄狹縫逐行掃描，實現(xiàn) 2.5μm 至 10mm 光斑的高精度測量；相機式則利用面陣傳感器實時成像，支持 200-2600nm 全光譜覆蓋。全系標配 M2 因子測試模塊，結合 BeamHere 軟件，可自動計算發(fā)散角、橢圓率等參數(shù)，并生成符合 ISO 11146 標準的測試報告。 產(chǎn)品優(yōu)勢： 滿足測試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測試模塊 精心設計的分析軟件 軟件真正做到交互友好，簡單易用，一鍵輸出測...

維度光電-BeamHere 光斑分析儀憑借高精度光束參數(shù)測量能力，為激光技術在各領域的創(chuàng)新應用提供支持。在工業(yè)制造中，其亞微米級光斑校準功能幫助優(yōu)化激光切割、焊接與打標工藝，確保光束能量分布均勻性，提升加工一致性。醫(yī)療領域中，BeamHere 用于眼科準分子激光設備的光束形態(tài)監(jiān)測，通過實時分析能量分布與光斑穩(wěn)定性，保障手術精度與安全性。科研場景下，該設備支持超短脈沖激光的時空特性，為新型激光器與光束整形技術突破提供數(shù)據(jù)支撐。光通信領域，BeamHere 可檢測光纖端面光斑質(zhì)量，優(yōu)化光信號耦合效率，確保通信系統(tǒng)性能穩(wěn)定。全系產(chǎn)品覆蓋 200-2600nm 寬光譜范圍，支持千萬級功率測量，結合 M...

如何使用光斑分析儀 Step 1 準備設備 將 BeamHere 光斑分析儀固定在光具座上，調(diào)整高度使激光束中心與 sensor 靶面重合。用 Type-C 線連接分析儀與電腦，打開 BeamHere 軟件等待設備識別。 Step 2 采集數(shù)據(jù) 開啟激光器預熱 10 分鐘，點擊軟件 "開始采集" 按鈕。實時觀察 2D 成像界面，確保光斑無過曝或欠曝，可通過轉輪調(diào)節(jié)衰減片至合適狀態(tài)。 Step 3 分析參數(shù) 在 "高級分析" 模塊勾選所需參數(shù)，軟件自動計算光斑尺寸（±0.5μm 精度）、能量均勻性（CV 值）及光束質(zhì)量因子。3D 視圖支持手勢縮放，便于觀察高階橫模分布。 Step 4 驗證結果 ...

使用 BeamHere 光斑分析儀測量光斑與光束質(zhì)量的流程 1. 成像原理 BeamHere 采用背照式 CMOS 傳感器，量子效率達 95%（500-1000nm），配合非球面透鏡組實現(xiàn)無畸變成像。 2. 信號處理 采集到的模擬信號經(jīng) 16 位 ADC 轉換，通過數(shù)字濾波算法消除噪聲，確保弱光信號（SNR>40dB）還原。 3. 參數(shù)計算 光斑尺寸：基于高斯擬合與閾值分割法 M2 因子：采用 ISO 11146-1:2005 標準的二階矩法 發(fā)散角：通過不同位置光斑尺寸計算斜率 4. 校準流程 內(nèi)置波長校準模塊（400-1700nm），每年需用標準光源進行增益校準，確保測量精度 ±1.5%。...

維度光電針對當前市場上的諸多行業(yè)痛點，隆重推出了光斑分析儀系列產(chǎn)品。在國內(nèi)激光光束質(zhì)量分析領域，長期以來存在著一個的問題，那就是缺乏能夠提供多樣化型號及定制化解決方案的光斑分析儀品牌。許多企業(yè)長期受限于國外設備的長周期交付和難以定制的缺陷，這不僅影響了生產(chǎn)效率，還增加了企業(yè)的運營成本。 針對這一問題，維度光電決定立項光斑分析儀系列產(chǎn)品，旨在解決這一行業(yè)難題。我們深知，只有通過自主和創(chuàng)新，才能打破國外設備的壟斷局面，為國內(nèi)企業(yè)提供更加高效、便捷的光束質(zhì)量分析解決方案。因此，我們致力于打造國內(nèi)專業(yè)、多面的光束質(zhì)量分析儀品牌，以滿足不同企業(yè)的需求。 我們的光斑分析儀系列產(chǎn)品不僅具備多樣化的型號，...

使用維度光電BeamHere 光斑分析儀開展光斑與光束質(zhì)量測量的流程 系統(tǒng)搭建：將 BeamHere 相機式光斑分析儀的傳感器置于激光束路徑，通過支架調(diào)節(jié)位置確保光斑完整覆蓋 sensor。使用 USB 3.0 數(shù)據(jù)線連接設備與電腦，安裝 BeamHere V3.2 軟件并完成驅動校準。 數(shù)據(jù)采集：開啟半導體激光器至穩(wěn)定輸出狀態(tài)，軟件選擇 "連續(xù)采集" 模式，設置曝光時間 50μs，幀率 100fps，同步觸發(fā)激光器確保單脈沖捕捉。 參數(shù)提取：軟件自動識別光斑區(qū)域，計算 FWHM 直徑（XY 軸）、橢圓率、能量集中度等 12 項基礎參數(shù)，同時基于 ISO 11146 標準算法生成 M2 因子、...

維度光電致力于激光領域的應用，將展示一系列針對千瓦級高功率、微米級小光斑以及脈沖激光的光束質(zhì)量測量解決方案。在此次展示中，我們將拆解光斑分析儀的全系列產(chǎn)品，深度剖析其技術，從光學原理到智能算法，為您層層揭秘。通過實際操作演示，直觀展現(xiàn)產(chǎn)品在復雜工況下的良好的穩(wěn)定性和超高測量精度。 我們將詳細介紹光斑分析儀的工作原理，包括其光學系統(tǒng)的設計、信號處理技術以及數(shù)據(jù)處理算法等環(huán)節(jié)。同時，我們還將展示光斑分析儀在不同應用場景中的表現(xiàn)，例如在工業(yè)生產(chǎn)、科研探索以及質(zhì)量檢測等方面的實際應用案例。通過這些案例，您可以了解到光斑分析儀如何在各種復雜環(huán)境下保持高穩(wěn)定性和高測量精度。 此外，針對工業(yè)生產(chǎn)和科研探...

選擇適合特定應用的 BeamHere 光斑分析儀需綜合考量光束特性、應用場景及功能需求： 1. 光束特性分析 光斑尺寸：亞微米級光斑（如半導體加工）優(yōu)先選擇狹縫式（支持 2.5μm 精度），毫米級光斑（如激光焊接）推薦相機式（覆蓋 10mm 量程）。 功率等級：高功率激光（如工業(yè)切割）應選狹縫式（直接測量近 10W），微瓦級弱光（如科研實驗）可采用相機式（通過 6 片衰減片適配）。 光束形態(tài)：高斯或規(guī)則光斑兩者均可（狹縫式更經(jīng)濟），非高斯光束（如貝塞爾光束）需相機式保留細節(jié)。 脈沖特性：單脈沖分析選相機式（觸發(fā)同步），連續(xù)或高頻脈沖適配狹縫式（需匹配掃描頻率）。 2. 應用場景適配 工業(yè)制造：...

維度光電-BeamHere光斑分析儀通過測量光束質(zhì)量參數(shù)，為激光技術在多領域的高效應用提供支撐。工業(yè)加工中，其亞微米級光斑校準能力幫助優(yōu)化切割、焊接與打標工藝，確保光束輪廓一致性，保障加工質(zhì)量。醫(yī)療領域用于眼科準分子激光手術設備校準，實時監(jiān)測光束能量分布，確保手術安全性。科研場景中支持皮秒級脈沖激光測量，為物理與材料提供高精度數(shù)據(jù)，推動新型激光器件。光通信領域可實現(xiàn)光纖端面光斑形態(tài)分析，保障光信號傳輸穩(wěn)定性。農(nóng)業(yè)與生命中，通過分析激光誘變育種光束參數(shù)，優(yōu)化植物生長調(diào)控效率。全系產(chǎn)品覆蓋200-2600nm寬光譜，支持千萬級功率測量，結合M2因子測試模塊與AI分析軟件，為各行業(yè)提供從光斑形態(tài)到...

維度光電國產(chǎn)光束質(zhì)量分析解決方案破局之路 國內(nèi)激光光束質(zhì)量分析市場長期被歐美品牌壟斷，存在三大痛點：產(chǎn)品型號單一（無法兼顧亞微米光斑與高功率檢測）、定制周期漫長（3-6 個月周期）、服務響應滯后（返廠維修影響生產(chǎn) 35 天 / 次）。 全場景產(chǎn)品矩陣 狹縫式：0.1μm 分辨率，直接測 10W 激光，支持 ±90° 任意角度掃描，滿足半導體加工等亞微米級需求 相機式：5.5μm 像元精度，6 片濾光片轉輪實現(xiàn) 1μW-1W 寬功率檢測，擅長復雜光斑分析 定制化服務：12 項定制選項（波長擴展、自動化接口等），短交付周期 5 天 未來將聚焦多模態(tài)光束分析與智能化診斷，為智能制造、醫(yī)療科技等提供技...

全系列產(chǎn)品矩陣與智能分析系統(tǒng) Dimension-Labs BeamHere 系列產(chǎn)品通過全光譜覆蓋與模塊化設計，構建起完整的光束質(zhì)量測量生態(tài)系統(tǒng)： 1. 全場景產(chǎn)品體系 光譜覆蓋：190-2700nm 超寬響應范圍，滿足紫外到遠紅外波段的測試需求 技術方案： 掃描狹縫式：支持 2.5μm-10mm 光斑檢測，0.1μm 超高分辨率，可測近 10W 高功率激光，適合半導體加工、高功率焊接等場景 相機式：400-1700nm 實時成像，5.5μm 像元精度，標配 6 片濾光片轉輪實現(xiàn) 1μW-1W 寬功率測量，擅長復雜光斑分析與脈沖激光檢測 結構創(chuàng)新：掃描狹縫式采用 ±90° 轉筒調(diào)節(jié)與可調(diào)光闌...

Dimension-Labs 正式發(fā)布符合 ISO11146 標準的 Beamhere 光斑分析解決方案。該系統(tǒng)通過硬件與軟件協(xié)同工作，可測量光斑能量分布、發(fā)散角及 M2 因子等參數(shù)。產(chǎn)品內(nèi)置光束整形評估模塊，可對聚焦光斑形態(tài)、準直系統(tǒng)性能進行量化檢驗。用戶可根據(jù)需求擴展 M2 測試功能，實現(xiàn)光束傳播方向上的束腰位置定位與發(fā)散角動態(tài)分析。所有檢測數(shù)據(jù)均通過軟件進行智能處理，一鍵生成包含 20 + 參數(shù)的標準化測試報告。 產(chǎn)品優(yōu)勢： 滿足測試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測試模塊 精心設計的分析軟件 軟件真正做到交互友好，簡單易用，一鍵輸出測試報告。光斑分析儀...

維度光電Dimension-Labs BeamHere 系列作為全光譜光束分析解決方案，致力于為激光技術應用提供 "一站式" 質(zhì)量管控工具。產(chǎn)品矩陣覆蓋 190-2700nm 超寬光譜，融合掃描狹縫式（2.5μm-10mm 光斑）與相機式（400-1700nm 成像）兩大技術平臺，形成從亞微米級高功率檢測到毫米級動態(tài)監(jiān)測的立體覆蓋。通過 ISO 11146 認證的 M2 因子測試模塊，結合 AI 算法，實現(xiàn)光束質(zhì)量的量化評估與預測。模塊化設計支持設備功能動態(tài)擴展，適配激光加工、醫(yī)療、科研等多場景需求，助力客戶構建智能化光束檢測體系。無干涉條紋的光斑質(zhì)量分析儀。近場光斑光斑分析儀光斑分析儀維度光...

相機式與狹縫式光斑分析儀對比指南 光斑分析儀的選擇需基于應用場景的光斑尺寸、功率、脈沖特性及形態(tài)復雜度： 1. 光斑尺寸 相機式：受限于 sensor 尺寸（≤10mm），小光斑為 55μm（10 倍 5.5μm 像元）。 狹縫式：刀口模式可測小 2.5μm 光斑，適合亞微米級檢測。 2. 功率范圍 相機式： 6 片衰減片（BeamHere 標配），可測 1W，需控制功率 < 10μW/cm2。 狹縫式：狹縫物理衰減機制支持近 10W 直接測量，無需外置衰減片。 3. 脈沖激光 相機式：觸發(fā)模式同步捕獲完整單脈沖光斑，兼容性強。 狹縫式：需匹配掃描頻率與激光重頻，易丟失脈沖信息。 4. 光斑形...

針對光通信領域，Dimension-Labs 提供多芯光斑同步檢測方案：掃描狹縫式設備支持單芯 2.5μm 光斑檢測，結合 Fast Check MT 檢測儀實現(xiàn) 12 芯并行測試；相機式系統(tǒng)實現(xiàn)全端面成像分析，可檢測連接器端面傾斜度誤差小于 0.5°。在醫(yī)療激光領域，其 0.1μm 分辨率可捕捉光斑畸變，配合閉環(huán)反饋系統(tǒng)實時調(diào)整激光參數(shù)，結合 M2 因子模塊優(yōu)化光束準直度，使激光聚焦精度達 ±2μm。工業(yè)加工場景中，千萬級功率測量能力與 ISO 標準參數(shù)輸出，幫助企業(yè)將激光切割熱影響區(qū)縮小 30%，提升加工精度達 ±5μm。微弱信號光斑如何檢測？維度光電動態(tài)范圍增強算法，突破探測器極限，同步...

維度光電推出的 BeamHere 光斑分析儀系列提供高性價比光束質(zhì)量檢測解決方案，涵蓋掃描狹縫式、相機式及 M2 測試模塊三大產(chǎn)品線： 掃描狹縫式光斑分析儀采用國內(nèi)的刀口 / 狹縫雙模式切換技術，支持 190-2700nm 寬光譜范圍，可測量 2.5μm-10mm 光束直徑，0.1μm 超高分辨率實現(xiàn)亞微米級光斑細節(jié)捕捉。創(chuàng)新狹縫物理衰減機制使其無需外置衰減片即可直接測量近 10W 高功率激光，適用于激光加工等高能量場景。 相機式光斑分析儀覆蓋 400-1700nm 波段，支持 2D/3D 實時成像與動態(tài)分析，可測量非高斯光束（如平頂、貝塞爾光束）。獨特的六濾光片轉輪設計實現(xiàn)功率范圍擴展，可拆...