工信部于5月29日公布電子信息制造業運行情況。1—4月份,中國電子信息制造業生產穩步增長,出口恢復向好,效益持續改善,投資保持較快增長,行業整體增勢明顯。生產方面,1—4月份,規模以上電子信息制造業增加值同比增長,增速分別比同期工業、高技術制造業高。4月份,規模以上電子信息制造業增加值同比增長。圖1電子信息制造業和工業增加值累計增速1—4月份,主要產品中,手機產量,同比增長,其中智能手機產量,同比增長;微型計算機設備產量,同比增長;集成電路產量1354億塊,同比增長。出口方面恢復向好。1—4月份,規模以上電子信息制造業出口的交貨值同比增長,較一季度提高,比同期工業低。4月份,規模以上電子信息制造業出口的交貨值同比增長。圖2電子信息制造業和工業出口的交貨值累計增速據海關統計,1—4月份,我國出口筆記本電腦4401萬臺,同比增長;出口手機,同比增長;出口集成電路887億個,同比增長。效益持續改善。1—4月份,規模以上電子信息制造業實現營業收入,同比增長,較一季度回落;營業成本,同比增長;實現利潤總額1442億元,同比增長;營業收入利潤率為,較一季度增加。4月份,規模以上電子信息制造業營業收入,同比增長;利潤,同比增長。高速貼片機在 SMT 貼片加工中如閃電俠,快速貼裝,為生產搶時間。自動化的SMT貼片加工評價高
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GaN的里程碑:300mm晶圓過渡與技術革新一、GaN技術概覽氮化鎵(GaN)作為一種高性能半導體材料,因其在高頻、高功率、高溫和高壓環境下的優良性能而備受矚目。隨著高性能電子器件需求的持續增長,GaN技術正從150mm和200mm晶圓向300mm晶圓過渡,這一轉變旨在減少設備投資,降低生產成本,推動電子器件的性能提升與市場應用。二、技術挑戰與突破在GaN技術向300mm晶圓尺寸邁進的過程中,面臨著熱膨脹系數(CTE)匹配問題、制造成本增加、設備兼容性等挑戰,其中CTE失配限制了更高電壓器件的制造能力。為克服這些難題,美國Qromis公司開發了QST(QromisSubstrateTechnology)襯底技術,通過與GaN相匹配的CTE,以及多層無機薄膜與SiO2鍵合層的創新設計,實現了300mm晶圓上高質量、無翹曲和無裂紋的GaN外延生長,明顯降低了器件成本。三、里程碑與市場影響信越化學工業株式會社成功應用QST技術,開發出300mmGaN外延生長襯底,標志著GaN技術的重要里程碑。這一成就不僅解決了GaN器件制造商在大直徑襯底上的技術瓶頸,減少了設備投資,降低了成本,還為高頻器件、功率器件和LED等應用領域開辟了新的發展路徑,特別是在數據中心和電源管理方面展現出巨大潛力。
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其中,WoW只適用于相同尺寸的兩個裸片,而SoIC可以堆疊多個不同尺寸的裸片。兩種封裝技術都針對移動和高性能計算系統,目前仍處在開發中,預計到2021年實現商用。這兩種封裝技術都屬于前沿工藝,采用銅焊盤直接粘合芯片,互連間距從9微米開始,同時采用硅通孔(TSV)技術連接外部微凸點。到第三季度,臺積電將提供宏指令作為TSV設計的起點,今年年底還將推出熱模型。各廠商當前工藝節點現狀。(來源:InternationalBusinessStrategies,Inc。)與此同時,臺積電今年還擴展了其CoWoS工藝,以支持兩倍于掩模版尺寸的器件。明年,還將擴展到支持三倍的掩模尺寸,并支持在硅基板中使用深溝槽電容器的五個金屬層,以應對信號和電源完整性的挑戰。臺積電還報告了其為嵌入式存儲器、圖像傳感器、MEMS和其他一些組件提供的七種不同工藝的進展,并且越來越多地將它們封裝成與邏輯節點緊密相關的模塊。在RF-SOI技術上,臺積電將其200mm晶圓上的180nm功能轉移至300mm晶圓上的40nm節點。在5G手機應用中,優化28/22nm工藝節點并應用于毫米波(mmWave)前端模塊;同時將16FFC工藝用于毫米波和sub-6-GHz收發器。在微控制器方面,嵌入式MRAM已于去年開始在22nm工藝節點進行試產。電子競技設備的 SMT 貼片加工,低延遲、高性能,助玩家暢快競技。哪里SMT貼片加工ODM加工
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