真空烤盤爐是與MOCVD設備配套使用的爐體,爐內抽真空,被處理工件放置在爐膛內,采用清洗氣體加熱反應方式進行干式清洗(清洗氣體:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂層石墨盤或石英盤)上的氮化鎵和氮化鋁等,可達到有效清潔處理,提高制品質量的目的。二、設計特點1、后門設計熱風電機2、降溫時風機開啟,同時兩端降溫封頭開啟,爐膛內產生如圖所示的氣體流向3、通過氣體介質將隔熱層內與水冷壁之間進行熱交換,達到快速降溫的目的三、技術指標1、使用溫度:1450℃;比較高溫度:1500℃;2、絕熱材料:石墨纖維毯、石墨紙;4、加熱元件:石墨加熱棒;5、冷卻方式:氣冷+循環(huán)風冷降溫;6、控溫穩(wěn)定度:2℃,具有PID參數(shù)自整定功能;7、爐膛溫度均勻度:5℃(恒溫1500℃);8、氣氛:可向爐膛內通入干燥、潔凈、無油的高純度氮氣,純度≥99.999%;9、極限真空:10-3torr級;10、抽氣速率:空載下,30min達到10-2torr11、升溫功率:170kW;12、升溫速率:15℃/min(空載);13、降溫速率:1450℃至80℃,240分鐘14、腔體尺寸:1000*1000*1000mm(寬*深*高)工業(yè)烤箱在社會上的重要性。福州工業(yè)烤箱的工廠
一、本產品廣泛應用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產單位。確定儀器儀表、電工產品、材料、零部件、設備等在低氣壓、高溫單項或同時作用下的環(huán)境適應性與可靠性試驗.二、主要技術指標:1、工作室溫度范圍:常溫~+300℃用戶使用溫度260℃2、溫度波動度:1.0℃(空載);3、溫度偏差:常壓溫度試驗:常溫~200℃時2℃200~300℃時5.0℃低氣壓高溫綜合試驗:≤100℃時2.0℃,100℃~200℃時5.0℃200℃~300℃時7.0℃4、升降溫速率:升溫時間:①常壓時:90min(常溫~+260℃)②低氣壓0.0001pa時:180min(常溫~+260℃)降溫時間:3℃~10℃/min(260℃~120℃),1℃~5℃/min(120℃~常溫℃)降溫方式:水冷降溫5、試驗箱承壓方式:采用內承壓方式6、壓力范圍:常壓~0.0001Pa福州工業(yè)烤箱的工廠工業(yè)烤箱的原理是什么?合肥真萍告訴您。
工業(yè)烤箱在工作時,操作人員通過儀表和感溫器來獲得工業(yè)烤箱內部的溫度值,在通過控制系統(tǒng)進行操作。工業(yè)烤箱的熱風循環(huán)加熱方式,與普通的散熱加熱方式相比,有著更好的氣體流動性,能加快工業(yè)烤箱內物料的干燥速度。工業(yè)烤箱的熱風循環(huán)系統(tǒng)由送風馬達、風輪和電熱器組成,送風馬達帶動風輪送出冷風,冷風經過電熱設備加熱攜帶熱能后經風道進入工業(yè)烤箱的烘箱工作室。工業(yè)烤箱的熱風循環(huán)系統(tǒng)有利于提高空氣溫度的均勻性,在工業(yè)烤箱開關箱門運送物料的過程中,溫度值會受到影響發(fā)生變動,熱風循環(huán)系統(tǒng)的均勻性則有利于在比較大快速度內恢復工作狀態(tài)的溫度值。
潔凈烘箱,本產品是參照GB/T11158-1989,GB2423,2-1989干燥箱技術條件及中國相關標準研究制造,廣泛應用于電子液晶顯示,LCD,CMOS,IC,醫(yī)藥實驗室等生產及科研部門。箱體結構:1烘箱總體由箱體部分,電氣控制柜部分,電加熱部分,風道部分,塵埃物過濾部分,N2進氣排氣及風冷部分等組裝而成,結構合理,功能實用。2外箱材料:外箱采用SS41#中碳鋼板經磷酸皮膜鹽處理后兩層防光面涂裝烤漆可防止微塵,內膽材料:采進口SUS304#2mm不銹鋼板全周氬焊,并經堿性蘇打水清潔有效的防止了機臺本身灰塵的產生。3保溫材料:采用正廠玻璃纖維公司出品的100K級高密度保溫板填充,有效的防止了熱能浪費。4電熱部分:采用進口覆套式電熱器(SHEATHEDHEATER)無塵無氧化電熱發(fā)生器5風道部分:整體結構采用了水平送風的方式由左向右送風后經美國進口H.E.P.A,(特殊風道設計)過濾效果可達99.99%,Class100;可靠先進的測控系統(tǒng)1溫度控制裝置:日本進口溫控器,內置PID自動整定,斜率設定功能2溫度控制方式為SSR固態(tài)繼電器功率調整輸出,溫度采集探頭為特制鎧裝K型熱電偶3溫度監(jiān)控裝置:采用日本六通道巡回檢測有紙記錄儀,可將烤箱內實時環(huán)境溫度進行檢測打印。工業(yè)烤箱如何發(fā)揮重要作用?合肥真萍告訴您。
HMDS預處理系統(tǒng)的必要性:在半導體生產工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質量直接影響到光刻的質量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導致光刻圖形轉移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側向腐蝕。  增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結合,起著偶聯(lián)劑的作用。合肥真萍告訴您如何正確使用工業(yè)烤箱?合肥精密工業(yè)烤箱
合肥真萍告訴您使用工業(yè)烤箱的便捷性。福州工業(yè)烤箱的工廠
下面為大家介紹一下真空干燥箱。它是將干燥物料處于負壓條件下進行干燥的一種箱體式干燥設備。它是利用真空泵進行抽氣抽濕,使工作室內形成真空狀態(tài),降低水的沸點,加快干燥的速度。特點:1、長方體工作室,增加有效容積,微電腦溫度控制器,精確控溫。2、雙層玻璃視窗觀察工作室內物體,一目了然。3、箱體閉合松緊能調節(jié),整體成型的硅橡膠門封圈,確保箱內高真空度。4、工作室采用不銹鋼板(或拉絲板)制成,確保產品經久耐用。5、儲存、加熱、試驗和干燥都是在沒有氧氣或者充滿惰性氣體環(huán)境里進行,所以不會氧化。真空程序分段控制該型號機型,抽真空過程可提供程序化編程,根據(jù)客戶要求編輯設定真空值,保壓時間值。可實現(xiàn)多段抽真空和保壓編程。操作步驟1,接通電源2,產品送入腔體,關門3,打開電源4,工作溫度設定好,啟動加熱,設備進入自動恒溫狀態(tài)5,真空值和時間設定好后,啟動真空泵,開始進入自動抽真空階段6,到達時間值后,真空泵自動關閉福州工業(yè)烤箱的工廠
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