超高真空烘箱被廣泛應用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產單位，以確定儀器儀表、電工產品、材料、零部件、設備等在低氣壓、高溫單項或同時作用下的環(huán)境適應性與可靠性試驗。下面為大家介紹一下超高真空烘箱的主要技術指標。1.工作室溫度范圍：常溫～+300℃用戶使用溫度260℃2.溫度波動度：±1.0℃（空載）；3.溫度偏差：常壓溫度試驗：常溫～200℃時±2℃200～300℃時±5.0℃低氣壓高溫綜合試驗:≤100℃時±2.0℃，100℃～200℃時±5.0℃200℃～300℃時±7.0℃合肥真萍告訴您如何正確使用試驗箱？高低溫高壓試驗箱生產廠家
超高真空烘箱廣泛應用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產單位。確定儀器儀表、電工產品、材料、零部件、設備等在低氣壓、高溫單項或同時作用下的環(huán)境適應性與可靠性試驗。下面為大家介紹一下超高真空烘箱的主要技術指標。1.工作室溫度范圍：常溫～+300℃用戶使用溫度260℃2.溫度波動度：1.0℃（空載）；3.溫度偏差：常壓溫度試驗：常溫～200℃時2℃200～300℃時5.0℃低氣壓高溫綜合試驗:≤100℃時2.0℃，100℃～200℃時5.0℃200℃～300℃時7.0℃成都高低溫低壓試驗箱試驗箱如何發(fā)揮重要作用？合肥真萍告訴您。
本篇介紹專業(yè)全自動HMDS真空烤箱，首先簡單介紹一下HMDS預處理系統(tǒng)的必要性：在半導體生產工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環(huán)節(jié)，涂膠質量直接影響到光刻的質量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側向腐蝕。增黏劑HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯(lián)劑的作用。
真空烘箱是將干燥物料處于負壓條件下進行干燥的一種箱體式干燥設備。它是利用真空泵進行抽氣抽濕，使工作室內形成真空狀態(tài)，降低水的沸點，加快干燥的速度。下面為大家介紹一下真萍科技真空烘箱的特點。一、真空程序分段控制該型號機型，抽真空過程可提供程序化編程，只需根據客戶要求編輯設定真空值，保壓時間值。相當大可實現18段抽真空和保壓編程。二、操作步驟1.接通電源；2.產品送入腔體，關門；3.打開電源；4.工作溫度設定好，啟動加熱，設備進入自動恒溫狀態(tài)；5.真空值和時間設定好后，啟動真空泵，開始進入自動抽真空階段；6.到達時間值后，真空泵自動關閉。上海哪家試驗箱廠家值得信賴？
精密鼓風烘箱適用于電子元器件、橡膠、塑料、裝飾材料等行業(yè)對溫度均勻性要求比較嚴格的實驗。真萍科技作為精密鼓風烤箱的優(yōu)良原廠廠家，設備都是自主生產銷售，質量可靠，品質保證，歡迎來電咨詢。大家對精密鼓風烘箱有沒有些許了解呢，下面小編就帶大家走近精密鼓風烘箱，為大家介紹一下真萍科技精密鼓風烤箱的參數。技術參數：1.型號：CB-9023A2.產品類型：液晶顯示3.電源電壓：AC220V10%/50Hz2%4.控溫范圍：室溫+10℃-200℃5.溫度分辨率：0.1℃6.溫度波動度：≤0.2℃7.溫度均勻度：≤1.5%8.輸入功率：500W9.工作室尺寸(mm)：300（寬）*300（深）*270（高）10.載物托架：2塊11.定時范圍：0-9999分鐘合肥真萍告訴您試驗箱如何去使用呢？大型試驗箱供應商家
試驗箱怎樣使用？合肥真萍告訴您。高低溫高壓試驗箱生產廠家
下面為大家介紹一下石墨盤真空烤盤爐的技術指標。1.使用溫度：1450℃；比較高溫度：1500℃；2.絕熱材料：石墨纖維毯、石墨紙；3.加熱元件：石墨加熱棒；4.冷卻方式：氣冷+循環(huán)風冷降溫；5.控溫穩(wěn)定度：2℃，具有PID參數自整定功能；6.爐膛溫度均勻度：5℃（恒溫1500℃）；7.氣氛:可向爐膛內通入干燥、潔凈、無油的高純度氮氣,純度≥99.999%；8.極限真空:10-3torr級；9.抽氣速率：空載下，30min達到10-2torr10.升溫功率：170kW；11.升溫速率：15℃/min（空載）；12.降溫速率：1450℃至80℃,240分鐘13.腔體尺寸：1000*1000*1000mm（寬*深*高）高低溫高壓試驗箱生產廠家
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