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淮北試驗箱

來源: 發布時間:2021-12-29

下面為大家介紹一下石墨盤真空烤盤爐的技術指標。1.使用溫度:1450℃;比較高溫度:1500℃;2.絕熱材料:石墨纖維毯、石墨紙;3.加熱元件:石墨加熱棒;4.冷卻方式:氣冷+循環風冷降溫;5.控溫穩定度:2℃,具有PID參數自整定功能;6.爐膛溫度均勻度:5℃(恒溫1500℃);7.氣氛:可向爐膛內通入干燥、潔凈、無油的高純度氮氣,純度≥99.999%;8.極限真空:10-3torr級;9.抽氣速率:空載下,30min達到10-2torr10.升溫功率:170kW;11.升溫速率:15℃/min(空載);12.降溫速率:1450℃至80℃,240分鐘13.腔體尺寸:1000*1000*1000mm(寬*深*高)試驗箱怎樣使用?合肥真萍告訴您。淮北試驗箱

精密鼓風烘箱適用于電子元器件、橡膠、塑料、裝飾材料等行業對溫度均勻性要求比較嚴格的實驗。真萍科技作為精密鼓風烤箱的優良原廠廠家,設備都是自主生產銷售,質量可靠,品質保證,歡迎來電咨詢。大家對精密鼓風烘箱有沒有些許了解呢,下面小編就帶大家走近精密鼓風烘箱,為大家介紹一下真萍科技精密鼓風烤箱的參數。技術參數:1.型號:CB-9023A2.產品類型:液晶顯示3.電源電壓:AC220V10%/50Hz2%4.控溫范圍:室溫+10℃-200℃5.溫度分辨率:0.1℃6.溫度波動度:≤0.2℃7.溫度均勻度:≤1.5%8.輸入功率:500W9.工作室尺寸(mm):300(寬)*300(深)*270(高)10.載物托架:2塊11.定時范圍:0-9999分鐘高低溫恒定濕熱試驗箱多少錢合肥真萍告訴您如何正確使用試驗箱?

下面為大家介紹一下全自動HMDS真空烤箱的整機尺寸、真空腔體尺寸。1.內膽尺寸:650*650*650;450*450*450mm;300*300*300mm;2.載物托架:2塊3.室溫+10℃-250℃控溫范圍:溫度分辨率:0.1℃溫度波動度:0.5℃4.真空泵:油泵或無油真空泵。真空度:133pa,5.加熱方式:腔體下部及兩側加溫。加熱器為外置加熱板(防止一側加熱使的HMDS液進入箱體內不能完本轉成氣態)6.可放2寸晶圓片或4寸晶圓片;6寸晶圓片;8寸晶圓片等。7.開箱溫度可以由user自行設定來降低process時間(正常工藝在50分鐘-120分鐘(按產品所需而定烘烤時間),為正常工作周期不含降溫時間(因降溫時間為常規降溫)。

真萍科技電腦式潔凈節能氮氣柜主要應用于防止晶圓片的潮濕、氧化及被其它氣體(ex阿摩利亞氣體)破壞,防止探針卡潮濕及氧化,防止光罩的受潮---黃光部封裝的金線,液防止晶的受潮,以及防止線路板受潮。下面為大家簡單介紹一下真萍科技電腦式潔凈節能氮氣柜的氮氣監控系統。1.溫濕度記錄功能:1.2內建內存,可儲存溫度/濕度,收集時間1~240分鐘可自行設定。1.3可利用RS232連接阜下載至計算機中讀取。1.4品管記錄格式設計,有助于內部記錄追蹤并可支持數據庫檔案格式。2.濕度警報系統:2.1可設定啟動警報的濕度值及條件,內配蜂鳴器(90分貝)及閃爍警示功能。2.2可另外選配積層式警示燈。3.溫濕度偏移校正功能:內建校正功能,確保顯示準確度。上海哪家的試驗箱比較好?

真空烘箱是將干燥物料處于負壓條件下進行干燥的一種箱體式干燥設備。它是利用真空泵進行抽氣抽濕,使工作室內形成真空狀態,降低水的沸點,加快干燥的速度。下面為大家介紹一下真萍科技真空烘箱的特點。1.長方體工作室,使有效容積達到相當大,微電腦溫度控制器,精確控溫。2.鋼化、防彈雙層玻璃門觀察工作室內物體,一目了然。3.箱體閉合松緊能調節,整體成型的硅橡膠門封圈,確保箱內高真空度4.工作室采用不銹鋼板(或拉絲板)制成,確保產品經久耐用。5.儲存、加熱、試驗和干燥都是在沒有氧氣或者充滿惰性氣體環境里進行,所以不會氧化。6.相當短加熱時間,與傳統干燥烘箱比加熱時間減少50%以上。真空烘箱因為是由電力提供熱能,而濕的物品是會導電的,故在使用上宜小心不要有漏電的現象發生,故一般烘箱都要接地使用,以保安全。若沒有地線也要確認烘箱沒有漏電的現象;若有輕微的漏電現象,可試著將插座拔起后將插腳以相反方向再插入,若沒有漏電現象可小心使用,若仍有漏電現象則應立即停用。試驗箱的原理是什么?合肥真萍告訴您。小型試驗箱安裝公司

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本篇介紹專業全自動HMDS真空烤箱,首先簡單介紹一下HMDS預處理系統的必要性:在半導體生產工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節,涂膠質量直接影響到光刻的質量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導致光刻圖形轉移的失敗,同時濕法腐蝕容易發生側向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯劑的作用。淮北試驗箱

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