吉田半導體 SU-3 負性光刻膠:國產技術賦能 5G 芯片封裝
自主研發 SU-3 負性光刻膠支持 3 微米厚膜加工,成為 5G 芯片高密度封裝材料。
針對 5G 芯片封裝需求,吉田半導體自主研發 SU-3 負性光刻膠,分辨率達 1.5μm,抗深蝕刻速率 > 500nm/min。其超高感光度與耐化學性確保復雜圖形的完整性,已應用于高通 5G 基帶芯片量產。產品采用國產原材料與工藝,不采用國外材料,成本較進口產品降低 40%,幫助客戶提升封裝良率至 98.5%,為國產 5G 芯片制造提供關鍵材料支撐。
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人才與生態:跨學科團隊的“青黃不接”
前段人才的結構性短缺
光刻膠研發需材料化學、半導體工藝、分析檢測等多領域。國內高校相關專業畢業生30%進入光刻膠行業,且缺乏具有10年以上經驗的工程師。日本企業通過“技術導師制”培養人才,而國內企業多依賴“挖角”,導致技術傳承斷裂。
產業鏈協同的“孤島效應”
光刻膠研發需與晶圓廠、設備商、檢測機構深度協同。國內企業因信息不對稱,常出現“材料性能與工藝需求不匹配”問題。例如,某國產KrF光刻膠因未考慮客戶產線的顯影液參數,導致良率損失20%。
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納米電子器件制造
? 半導體芯片:在22nm以下制程中,EUV光刻膠(分辨率≤10nm)用于制備晶體管柵極、納米導線等關鍵結構,實現芯片集成度提升(如3nm制程的FinFET/GAA晶體管)。
? 二維材料器件:在石墨烯、二硫化鉬等二維材料表面,通過電子束光刻膠定義納米電極陣列,構建單原子層晶體管或傳感器。
納米光子學與超材料
? 光子晶體與波導:利用光刻膠制備亞波長周期結構(如光子晶體光纖、納米級波導彎頭),調控光的傳播路徑,用于集成光路或量子光學器件。
? 超材料設計:在金屬/介質基底上刻蝕納米級“魚網狀”“蝴蝶結”等圖案(如太赫茲超材料),實現對電磁波的超常調控(吸收、偏振轉換)。
作為深耕半導體材料領域二十余年的綜合性企業,廣東吉田半導體材料有限公司始終將環保理念融入產品研發與生產全流程。公司位于東莞松山湖產業集群,依托區域產業鏈優勢,持續推出符合國際環保標準的半導體材料解決方案。
公司在錫膏、焊片等產品中采用無鹵無鉛配方,嚴格遵循 RoHS 指令要求,避免使用有害物質。以錫膏為例,其零鹵素配方通過第三方機構認證,不僅減少了電子產品廢棄后的環境負擔,還提升了焊接可靠性,適用于新能源汽車、精密電子設備等領域。同時,納米壓印光刻膠與 LCD 光刻膠的生產過程中,公司通過優化原料配比,減少揮發性有機物(VOCs)排放,確保產品符合歐盟 REACH 法規。
吉田公司以無鹵無鉛配方與低 VOC 工藝打造光刻膠。
在半導體材料領域,廣東吉田半導體材料有限公司憑借 23 年技術沉淀,已成為國內光刻膠行業的企業。公司產品線覆蓋正性、負性、厚膜、納米壓印等多類型光刻膠,廣泛應用于芯片制造、LCD 顯示、PCB 電路板等領域。
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技術:自主研發的光刻膠產品具備高分辨率(如 JT-3001 厚板光刻膠)、高感光度(如 JT-1000 負性光刻膠)及抗深蝕刻性能,部分指標達到水平。
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嚴苛品控:生產過程嚴格遵循 ISO9001 體系,材料進口率 100%,并通過 8S 現場管理確保制程穩定性。
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定制化服務:支持客戶需求定制,例如為特殊工藝開發光刻膠,滿足多樣化場景需求。
公司位于松山湖開發區,依托產業園區資源,持續加大研發,與科研機構合作推動技術升級。目前,吉田半導體已服務全球數千家客戶,以 “匠心品質、售后無憂” 的理念贏得市場口碑。
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光刻膠:半導體之路上的挑戰與突破。東莞負性光刻膠價格
吉田半導體的光刻膠產品覆蓋芯片制造、顯示面板、PCB 及微納加工等領域,通過差異化技術(如納米壓印、厚膜工藝)和環保特性(水性配方),滿足從傳統電子到新興領域(如第三代半導體、Mini LED)的多樣化需求。其產品不僅支持高精度、高可靠性的制造工藝,還通過材料創新推動行業向綠色化、低成本化方向發展。吉田半導體光刻膠的優勢在于技術全面性、環保創新、質量穩定性及本土化服務,尤其在納米壓印、厚膜工藝及水性膠領域形成差異化競爭力。
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