本篇介紹專業全自動HMDS真空烤箱，首先簡單介紹一下HMDS預處理系統的必要性：在半導體生產工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節，涂膠質量直接影響到光刻的質量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗，同時濕法腐蝕容易發生側向腐蝕。增黏劑HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯劑的作用。合肥真萍科技網帶爐專業值得信賴。網帶爐標準

一、熱工系統1.額定溫度800℃2.較高溫度850℃3.加熱元件陶瓷外絲加熱管4.加熱功率18kw5.空爐保溫功率約9kw6.溫區個數1個7.控溫點數2點8.熱偶K分度9.控溫穩定度±1℃(恒溫平臺)10.爐膛溫度均勻度±6℃（恒溫800℃,1h）二、冷卻系統1.冷卻結構無2.產品降溫隨爐降溫3.安全保護4.報警指示超溫、斷偶、停水、停氣等聲光報警保護5.設備安全升溫速率≤5℃/min，在半導體生產工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節，涂膠質量直接影響到光刻的質量，涂膠工藝也顯得尤為重要。小型網帶爐保養網帶爐怎樣使用？合肥真萍告訴您。

中溫氣氛箱式爐主要用于磷酸鐵鋰正極材料等類似產品的高溫燒結、熱處理，下面為大家介紹一下中溫氣氛箱式爐的系統配置。一、熱工系統1.額定溫度800℃2.較高溫度850℃3.加熱元件陶瓷外絲加熱管4.加熱功率18kw5.空爐保溫功率約9kw6.溫區個數1個7.控溫點數2點8.熱偶K分度9.控溫穩定度±1℃(恒溫平臺)10.爐膛溫度均勻度±6℃（恒溫800℃,1h）二、氣氛系統1.爐膛氣氛2路氮氣，流量計量程為2～20L/min；每路流量可調節2.排氣系統在爐膛頂部設置一個排氣囪，用于廢氣排放，廢氣3.經過水封清洗后進入大氣中，減少對環境污染4.氧含量配氧含量分析儀分析氧含量：5.高溫狀態氧含量≤10ppm+氣源氧含量6.低溫狀態氧含量≤50ppm+氣源氧含量

真萍科技電腦式潔凈節能氮氣柜主要應用于解決晶圓片的潮濕、氧化及被其它氣體(ex阿摩利亞氣體)破壞，解決探針卡潮濕及氧化問題解決光罩的受潮問題---黃光部封裝的金線，解決液晶的受潮問題，解決線路板受潮問題。下面為大家簡單介紹一下真萍科技電腦式潔凈節能氮氣柜的過濾系統。1.EBM電子式EC馬達控制無塵室FFU。2.鏡面不銹鋼結構體。3.特殊導流風道設計，風壓平均，可有效提供風量，降低噪音。4.電路板控制模塊，提供安全保護裝置，運轉異常指示燈及控制干接點輸出。5.無段式風量調速器可任意調整風量大小。6.濾網ULPA，0.12μm，99.9995%以上的過濾效果。7.電力規格：單相220V50Hz0.95A，輸出功率150W。真萍科技為您提供定制各種尺寸網帶爐。

超高真空烘箱廣泛應用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產單位。確定儀器儀表、電工產品、材料、零部件、設備等在低氣壓、高溫單項或同時作用下的環境適應性與可靠性試驗。下面為大家介紹一下超高真空烘箱的降溫速率。1.升溫時間：①常壓時：90min（常溫～+260℃）②低氣壓0.0001pa時：180min（常溫～+260℃）2.降溫時間：3℃～10℃/min（260℃～120℃）,1℃～5℃/min（120℃～常溫℃）3.降溫方式：水冷降溫4.試驗箱承壓方式：采用內承壓方式5.壓力范圍：常壓～0.0001Pa合肥真萍科技網帶爐誠信經營。燒結網帶爐標準

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