根據2019年數據，全球半導體光刻膠**大廠商占據全球光刻膠市場87%份額。其中日本占有四家，分別是JSR、東京應化(TOK)、信越化學與富士電子材料，這四家的市場份額達到72%，市場集中度明顯。在半導體光刻膠細分領域，日本廠商在市場中具有較強話語權。（1）g/i線光刻膠市場：日本的東京應化、JSR、住友化學和富士膠片分別占據26%、15%、15%、8%的份額，在全球市場占據64%份額。（2）KrF光刻膠市場：日本企業東京應化、信越化學和JSR在全球KrF光刻膠細分市場分別占據34%、22%和18%份額，合計占比達到74%。（3）ArF光刻膠市場：日本企業JSR、信越化學、東京應化和住友化學包攬前四，分別占據全球ArF光刻膠細分市場25%、23%、20%和15%市場份額，合計市場份額達到83%。（4）EUV光刻膠市場：較先進的EUV光刻膠領域完全被日本企業所主導，日本JSR、東京應化、信越化學成為EUV光刻膠市場可實現量產的廠商。目前引入EUV工藝的*有三星電子和臺積電兩家公司。在半導體集成電路制造行業：主要使用g線光刻膠、i線光刻膠、KrF光刻膠、ArF光刻膠等。江蘇正性光刻膠顯影

分辨率即光刻工藝中所能形成較小尺寸的有用圖像。是區別硅片表面相鄰圖形特征的能力。一般用關鍵尺寸（CD，Critical Dimension）來衡量分辨率。形成的關鍵尺寸越小，光刻膠的分辨率越好 。此性質深受光刻膠材質本身物理化學性質的影響，必須避免光刻膠材料在顯影過程中收縮或在硬烤中流動。因此，若要使光刻材料擁有良好的分辨能力，需謹慎選擇高分子基材及所用的顯影劑。分辨率和焦深都是光刻中圖像質量的關鍵因素。在光刻中既要獲得更好的分辨率來形成關鍵尺寸圖形，又要保持合適的焦深是非常矛盾的。雖然分辨率非常依賴于曝光設備，但是高性能的曝光工具需要與之相配套的高性能的光刻膠才能真正獲得高分辨率的加工能力。浦東PCB光刻膠溶劑在集成電路制造領域，如果說光刻機是推動制程技術進步的“引擎”，光刻膠就是這部“引擎”的“燃料”。

肉桂酸酯類的光刻膠：這類光刻膠在紫外光的照射下，肉桂酸上的不飽和鍵會打開，產生自由基，形成交聯結構。主要品種有聚乙烯醇肉桂酸酯光刻膠、聚乙烯氧乙基肉桂酸酯光刻膠和肉桂叉二酯光刻膠等。前者膠是早期被用于光刻膠制備的光敏高分子化合物，對二氧化硅、鋁、氧化鉻等材料都有良好的附著力，耐氫氟酸、磷酸腐蝕；中者膠在曝光下幾乎不受氧的影響，無須氮氣保護，分辨率1 μm左右，靈敏度較前者膠高1倍，黏附性好，抗蝕能力強，圖形清晰、線條整齊，耐熱性好，顯影后可在190℃堅膜0.5 h不變質，感光范圍在250~475 nm，特別對436 nm十分敏感，屬線型高分子聚合物；第三種膠能溶于酮類、烷烴等溶劑，不溶于水、乙醇等。有較好的黏附性和感光性 ，分辨率也很高，感光速度快。

通常光刻膠等微電子化學品不僅品質要求高，而且需要多種不同的品類滿足下游客戶多樣化的需。如果沒有規模效益，供應商就無法承擔滿足多樣化需求帶來的開銷。因此，品種規模構成了進入該行業的重要壁壘。同時，一般微電子化學品具有一定的腐蝕性，對生產設備有較高的要求，且生產環境需要進行無塵或微塵處理。制備微電子化學品還需要全封閉、自動化的工藝流程，以避免污染，提高質量。因此，光刻膠等微電子化學品生產在安全生產、環保設備、生產工藝系統、過程控制體系以及研發投資等方面要求較高。如果沒有強大的資金實力，企業就難以在設備、研發和技術服務上取得競爭優勢，以提升可持續發展能力。因此，光刻膠這樣的微電子化學品行業具備較高的資金壁壘。光刻膠生產工藝復雜，技術壁壘高，其研發和量產對企業都具有極高要求。

質量控制技術：由于用戶對光刻膠的穩定性、一致性要求高，包括不同批次間的一致性，通常希望對感光靈敏度、膜厚的一致性保持在較高水平，因此，光刻膠生產商不僅要配備齊全的測試儀器，還需要建立一套嚴格的QA體系以保證產品的質量穩定。原材料技術：光刻膠是一種經過嚴格設計的復雜、精密的配方產品，由成膜劑、光敏劑、溶劑和添加劑等不同性質的原料，通過不同的排列組合，經過復雜、精密的加工工藝而制成。因此，光刻膠原材料的品質對光刻膠的質量起著關鍵作用。對于半導體化學化學試劑的純度，際半導體設備和材料組織（SEMI）制定了國際統一標準。光刻膠的研發是不斷進行配方調試的過程，且難以通過現有產品反向解構出其配方，這對技術有很大的要求。浦東負性光刻膠曝光

光刻膠下游為印刷電路板、顯示面板和電子芯片，廣泛應用于消費電子、航空航天等領域。江蘇正性光刻膠顯影

環化橡膠型光刻膠：屬于聚烴類——雙疊氮系光刻膠。這種膠是將天然橡膠溶解后，用環化劑環化制備而成的。一般來說，橡膠具有較好的耐腐蝕性，但是它的感光活性很差。橡膠的分子量在數十萬以上，因此溶解性甚低，無論在光刻膠的配制還是顯影過程中都有很大困難。因此無法直接采用橡膠為原料配制光刻膠。這一類光刻膠的重要組成部分為交聯劑，又稱架橋劑，可以起到光化學固化作用，依賴于帶有雙感光性官能團的交聯劑參加反應，交聯劑曝光后產生雙自由基，它和聚烴類樹脂相作用，在聚合物分子鏈之間形成橋鍵，變為三維結構的不溶性物質。江蘇正性光刻膠顯影

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