Dimension-Labs 突破性推出 Beamhere 智能光斑分析平臺(tái)，通過模塊化設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)光束質(zhì)量全參數(shù)檢測(cè)。該系統(tǒng)采用高靈敏度傳感器陣列，可實(shí)時(shí)測(cè)繪光斑能量分布，同步計(jì)算發(fā)散角及 M2 因子等指標(biāo)。針對(duì)光束整形、聚焦優(yōu)化等場(chǎng)景，系統(tǒng)提供專業(yè)分析模板，支持 ISO11146 標(biāo)準(zhǔn)參數(shù)輸出。可選配的 M2 測(cè)試模塊通過滑軌式掃描技術(shù)，實(shí)現(xiàn)光束傳播特性的三維重建，終由 AI 算法自動(dòng)生成包含能量集中度、橢圓率等 20 + 參數(shù)的測(cè)試報(bào)告。 產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)： 滿足測(cè)試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測(cè)試模塊 精心設(shè)計(jì)的分析軟件。 軟件真正做到交互友好，簡(jiǎn)單易用，一鍵輸出測(cè)試報(bào)告。光斑分析儀保修期多長(zhǎng)？維度光電整機(jī) 3 年質(zhì)保，部件 5 年延保。光束質(zhì)量光斑分析儀性能

如何使用光斑分析儀 Step 1 準(zhǔn)備設(shè)備 將 BeamHere 光斑分析儀固定在光具座上，調(diào)整高度使激光束中心與 sensor 靶面重合。用 Type-C 線連接分析儀與電腦，打開 BeamHere 軟件等待設(shè)備識(shí)別。 Step 2 采集數(shù)據(jù) 開啟激光器預(yù)熱 10 分鐘，點(diǎn)擊軟件 "開始采集" 按鈕。實(shí)時(shí)觀察 2D 成像界面，確保光斑無過曝或欠曝，可通過轉(zhuǎn)輪調(diào)節(jié)衰減片至合適狀態(tài)。 Step 3 分析參數(shù) 在 "高級(jí)分析" 模塊勾選所需參數(shù)，軟件自動(dòng)計(jì)算光斑尺寸（±0.5μm 精度）、能量均勻性（CV 值）及光束質(zhì)量因子。3D 視圖支持手勢(shì)縮放，便于觀察高階橫模分布。 Step 4 驗(yàn)證結(jié)果 切換至 "歷史記錄" 對(duì)比多次測(cè)量數(shù)據(jù)，使用 "統(tǒng)計(jì)分析" 功能生成標(biāo)準(zhǔn)差曲線。若發(fā)現(xiàn)異常，可調(diào)用 "單點(diǎn)測(cè)量" 工具檢查特定位置能量值。 Step 5 導(dǎo)出報(bào)告 在 "報(bào)告模板" 中選擇 "科研版" 或 "工業(yè)版"，自動(dòng)生成帶水印的 PDF 報(bào)告，包含光斑圖像、參數(shù)表格、趨勢(shì)圖表及 QC 判定結(jié)果。光斑大小光斑分析儀系統(tǒng)搭建M2因子測(cè)量模塊，兼顧光斑與光束質(zhì)量一站式測(cè)試。

BeamHere 分析軟件作為組件，支持多設(shè)備協(xié)同工作：掃描數(shù)據(jù)自動(dòng)校準(zhǔn)、光斑模式智能識(shí)別、M2 因子三維重建。通過機(jī)器學(xué)習(xí)算法，可自動(dòng)補(bǔ)償環(huán)境光干擾與溫度漂移。通過可視化界面，用戶可實(shí)時(shí)查看光斑能量分布云圖、發(fā)散角變化曲線及束腰位置動(dòng)態(tài)圖，支持多參數(shù)聯(lián)動(dòng)分析。軟件內(nèi)置模板庫(kù)，一鍵生成包含 20 + 參數(shù)的標(biāo)準(zhǔn)化報(bào)告，支持 PDF/Excel/XML 多格式導(dǎo)出，并支持?jǐn)?shù)據(jù)追溯與批量處理，歷史數(shù)據(jù)可自動(dòng)關(guān)聯(lián)測(cè)試條件，縮短測(cè)試周期。企業(yè)版支持用戶權(quán)限分級(jí)管理與數(shù)據(jù)加密。

Dimension-Labs 推出的掃描狹縫式光斑分析儀，通過國(guó)內(nèi)的雙模式切換技術(shù)，實(shí)現(xiàn) 190-2700nm 寬光譜覆蓋與 2.5μm-10mm 光束直徑測(cè)量。其 0.1μm 超高分辨率可捕捉亞微米級(jí)光斑細(xì)節(jié)，創(chuàng)新設(shè)計(jì)解決三大檢測(cè)痛點(diǎn)： 小光斑測(cè)量：刀口模式分析 < 20μm 光斑形態(tài)，避免像素丟失 高功率檢測(cè)：狹縫物理衰減機(jī)制允許直接測(cè)量近 10W 激光，無需衰減片 大光斑分析：狹縫模式支持 10mm 光斑能量分布檢測(cè) 設(shè)備采用正交狹縫轉(zhuǎn)動(dòng)輪結(jié)構(gòu)，通過旋轉(zhuǎn)掃描同步采集 XY 軸數(shù)據(jù)，經(jīng)算法處理輸出光束直徑、橢圓率等參數(shù)。緊湊設(shè)計(jì)適配多場(chǎng)景安裝，通過 CE/FCC 認(rèn)證，適用于激光加工、醫(yī)療設(shè)備及科研領(lǐng)域，幫助客戶提升光束質(zhì)量檢測(cè)效率，降**檢測(cè)成本。相機(jī)式光斑分析儀都有哪些廠家？

維度光電-BeamHere光斑分析儀通過測(cè)量光束質(zhì)量參數(shù)，為激光技術(shù)在多領(lǐng)域的高效應(yīng)用提供支撐。在工業(yè)加工領(lǐng)域，其亞微米級(jí)光斑校準(zhǔn)能力有效優(yōu)化切割、焊接及打標(biāo)工藝，確保光束輪廓的一致性，從而保障加工質(zhì)量。在醫(yī)療領(lǐng)域，該設(shè)備用于眼科準(zhǔn)分子激光手術(shù)設(shè)備的校準(zhǔn)，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)光束能量分布，確保手術(shù)的安全性。在科研場(chǎng)景中，它支持皮秒級(jí)脈沖激光測(cè)量，為物理與材料提供高精度數(shù)據(jù)，推動(dòng)新型激光器件的。在光通信領(lǐng)域，該分析儀能夠?qū)崿F(xiàn)光纖端面光斑形態(tài)分析，保障光信號(hào)傳輸?shù)姆€(wěn)定性。在農(nóng)業(yè)與生命領(lǐng)域，通過分析激光誘變育種的光束參數(shù)，優(yōu)化植物生長(zhǎng)調(diào)控的效率。全系產(chǎn)品覆蓋200-2600nm寬光譜范圍，支持千萬級(jí)功率測(cè)量，結(jié)合M2因子測(cè)試模塊與AI分析軟件，為各行業(yè)提供從光斑形態(tài)到傳播特性的全鏈路檢測(cè)方案，助力客戶提升產(chǎn)品性能和生產(chǎn)效率。Z-block 器件生產(chǎn)檢驗(yàn)中的光斑分析儀質(zhì)量檢測(cè)。國(guó)內(nèi)光斑分析儀操作

光斑分析儀都有哪些類型？光束質(zhì)量光斑分析儀性能

Dimension-Labs 光斑分析儀系列采用差異化設(shè)計(jì)：掃描狹縫式側(cè)重高功率場(chǎng)景（千萬級(jí)功率），通過物理衰減機(jī)制實(shí)現(xiàn)安全測(cè)量，衰減級(jí)數(shù)達(dá) 10?:1，無需外置衰減片；相機(jī)式則主打?qū)捁庾V（200-2600nm）與實(shí)時(shí)成像功能，支持 100fps 高速連拍。相較于傳統(tǒng)設(shè)備，其 0.1μm 分辨率提升 10 倍以上，可解析直徑小于 5μm 的亞微米級(jí)光斑；M2 測(cè)試模塊支持光束傳播特性動(dòng)態(tài)分析，通過滑軌式掃描獲取 100 + 測(cè)量點(diǎn)數(shù)據(jù)。軟件集成 AI 算法，可自動(dòng)識(shí)別光斑模式，率達(dá) 99.7%，將人工分析效率提升 90%，單組數(shù)據(jù)處理時(shí)間從 20 分鐘縮短至 2 分鐘。光束質(zhì)量光斑分析儀性能

深圳市維度科技有限公司（DimensionTechnologyCo.,Ltd）2007年于深圳成立，為國(guó)際前列光測(cè)量整體解決方案供應(yīng)商，自創(chuàng)立以來便不斷深耕，積累了深厚的行業(yè)經(jīng)驗(yàn)。旗下維度光電（Dimension-labs）以突破技術(shù)壁壘、打破國(guó)外壟斷、加速國(guó)產(chǎn)化替代為己任，構(gòu)建并培育網(wǎng)狀光電生態(tài)鏈，維度光電產(chǎn)品覆蓋全系列光斑、光功率、光譜測(cè)量等儀器、高精度成像系統(tǒng)、高穩(wěn)定光機(jī)械、光學(xué)元件等多領(lǐng)域，服務(wù)全球高校、科研機(jī)構(gòu)、企業(yè)及創(chuàng)客團(tuán)體，在行業(yè)內(nèi)影響力深遠(yuǎn)，著光電產(chǎn)業(yè)的發(fā)展潮流，通過一站式光電產(chǎn)品線上/線下服務(wù)平臺(tái)，一站下單，現(xiàn)貨秒發(fā)，深度融合互聯(lián)網(wǎng)電子商務(wù)與光電行業(yè)，形成創(chuàng)新型數(shù)字化產(chǎn)業(yè)生態(tài)鏈，助力各領(lǐng)域創(chuàng)新發(fā)展。