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激光光斑分析儀測(cè)量

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2025-04-09

使用 BeamHere 光斑分析儀測(cè)量激光光斑和質(zhì)量,包括以下步驟: 準(zhǔn)備:準(zhǔn)備 BeamHere 光斑分析儀、激光器和數(shù)據(jù)處理軟件。確保光斑傳感器放置并連接到計(jì)算機(jī)。 數(shù)據(jù)采集:?jiǎn)?dòng)激光器,穩(wěn)定照射傳感器,實(shí)時(shí)傳輸圖像信息到計(jì)算機(jī)。 數(shù)據(jù)分析:BeamHere 軟件自動(dòng)處理數(shù)據(jù),計(jì)算光斑參數(shù)和光束質(zhì)量參數(shù),支持 2D/3D 視圖。 結(jié)果展示:軟件以圖表和數(shù)值展示結(jié)果,一鍵生成包含所有數(shù)據(jù)的測(cè)試報(bào)告,便于導(dǎo)出和打印。 這些步驟幫助用戶測(cè)量光斑和光束質(zhì)量,支持激光技術(shù)。光束發(fā)散角應(yīng)該如何測(cè)量。激光光斑分析儀測(cè)量

光斑分析儀

維度光電Dimension-Labs BeamHere 系列作為全光譜光束分析解決方案,致力于為激光技術(shù)應(yīng)用提供 "一站式" 質(zhì)量管控工具。產(chǎn)品矩陣覆蓋 190-2700nm 超寬光譜,融合掃描狹縫式(2.5μm-10mm 光斑)與相機(jī)式(400-1700nm 成像)兩大技術(shù)平臺(tái),形成從亞微米級(jí)高功率檢測(cè)到毫米級(jí)動(dòng)態(tài)監(jiān)測(cè)的立體覆蓋。通過(guò) ISO 11146 認(rèn)證的 M2 因子測(cè)試模塊,結(jié)合 AI 算法,實(shí)現(xiàn)光束質(zhì)量的量化評(píng)估與預(yù)測(cè)。模塊化設(shè)計(jì)支持設(shè)備功能動(dòng)態(tài)擴(kuò)展,適配激光加工、醫(yī)療、科研等多場(chǎng)景需求,助力客戶構(gòu)建智能化光束檢測(cè)體系。遠(yuǎn)紅外光斑分析儀廠家光束發(fā)散角測(cè)量原理是什么?

激光光斑分析儀測(cè)量,光斑分析儀

Dimension-Labs 維度光電相機(jī)式與狹縫式光斑分析儀的選擇需基于應(yīng)用場(chǎng)景的光斑尺寸、功率等級(jí)、脈沖特性及形態(tài)復(fù)雜度。相機(jī)式基于面陣傳感器成像,可測(cè)大10mm 光斑(受限于 sensor 尺寸),小光斑為 55μm(10 倍 5.5μm 像元),結(jié)合 6 片衰減片(BeamHere 標(biāo)配)實(shí)現(xiàn) 1W 功率測(cè)量,適合大光斑、脈沖激光(觸發(fā)模式同步捕獲單脈沖)及非高斯光束(如貝塞爾光束)檢測(cè),通過(guò)面陣實(shí)時(shí)反饋保留復(fù)雜形態(tài)細(xì)節(jié)。狹縫式采用正交狹縫掃描,刀口模式可測(cè)小 2.5μm 光斑,創(chuàng)新狹縫物理衰減機(jī)制允許直接測(cè)量近 10W 高功率激光,適合亞微米光斑、高功率及高斯光斑檢測(cè),但需嚴(yán)格匹配掃描頻率與激光重頻以避免脈沖丟失,且復(fù)雜光斑會(huì)因狹縫累加導(dǎo)致能量分布失真。維度光電 BeamHere 系列提供雙技術(shù)方案,用戶可根據(jù)光斑尺寸(亞微米選狹縫,大光斑選相機(jī))、功率等級(jí)(高功率選狹縫,微瓦級(jí)選相機(jī))及光斑類型(復(fù)雜形態(tài)選相機(jī),高斯光斑選狹縫)靈活選擇,實(shí)現(xiàn)光斑檢測(cè)全場(chǎng)景覆蓋。

維度光電推出的 BeamHere 光斑分析儀系列提供高性價(jià)比光束質(zhì)量檢測(cè)解決方案,涵蓋掃描狹縫式、相機(jī)式及 M2 測(cè)試模塊三大產(chǎn)品線: 掃描狹縫式光斑分析儀采用國(guó)內(nèi)的刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù),支持 190-2700nm 寬光譜范圍,可測(cè)量 2.5μm-10mm 光束直徑,0.1μm 超高分辨率實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)光斑細(xì)節(jié)捕捉。創(chuàng)新狹縫物理衰減機(jī)制使其無(wú)需外置衰減片即可直接測(cè)量近 10W 高功率激光,適用于激光加工等高能量場(chǎng)景。 相機(jī)式光斑分析儀覆蓋 400-1700nm 波段,支持 2D/3D 實(shí)時(shí)成像與動(dòng)態(tài)分析,可測(cè)量非高斯光束(如平頂、貝塞爾光束)。獨(dú)特的六濾光片轉(zhuǎn)輪設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)功率范圍擴(kuò)展,可拆卸結(jié)構(gòu)支持科研成像功能拓展。 M2 測(cè)試模塊適配全系產(chǎn)品,通過(guò) ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)算法測(cè)量光束傳播參數(shù)(M2 因子、發(fā)散角、束腰位置等),結(jié)合 BeamHere 軟件實(shí)現(xiàn)一鍵生成報(bào)告、多參數(shù)同步分析。系統(tǒng)以模塊化設(shè)計(jì)滿足光通信、醫(yī)療、工業(yè)等領(lǐng)域的光斑檢測(cè)需求,兼顧實(shí)驗(yàn)室與產(chǎn)線在線監(jiān)測(cè)場(chǎng)景。M2 因子測(cè)量模塊怎么選?維度光電 M2 因子測(cè)量模塊,搭配光斑分析儀,測(cè)量激光光束質(zhì)量。

激光光斑分析儀測(cè)量,光斑分析儀

BeamHere 分析軟件作為組件,支持多設(shè)備協(xié)同工作:掃描數(shù)據(jù)自動(dòng)校準(zhǔn)、光斑模式智能識(shí)別、M2 因子三維重建。通過(guò)機(jī)器學(xué)習(xí)算法,可自動(dòng)補(bǔ)償環(huán)境光干擾與溫度漂移。通過(guò)可視化界面,用戶可實(shí)時(shí)查看光斑能量分布云圖、發(fā)散角變化曲線及束腰位置動(dòng)態(tài)圖,支持多參數(shù)聯(lián)動(dòng)分析。軟件內(nèi)置模板庫(kù),一鍵生成包含 20 + 參數(shù)的標(biāo)準(zhǔn)化報(bào)告,支持 PDF/Excel/XML 多格式導(dǎo)出,并支持?jǐn)?shù)據(jù)追溯與批量處理,歷史數(shù)據(jù)可自動(dòng)關(guān)聯(lián)測(cè)試條件,縮短測(cè)試周期。企業(yè)版支持用戶權(quán)限分級(jí)管理與數(shù)據(jù)加密。光束質(zhì)量M2怎么測(cè)量?束腰半徑光斑分析儀怎么收費(fèi)

光斑分析儀國(guó)產(chǎn)替代都有哪些廠家?激光光斑分析儀測(cè)量

維度光電作為全球激光測(cè)量領(lǐng)域解決商,致力于打造 "三橫三縱" 產(chǎn)品矩陣: 橫向覆蓋: 光譜范圍:190-2700nm 全波段 光斑尺寸:0.1μm-10mm 全尺寸 功率等級(jí):1μW-10W 全功率 縱向深度: 工業(yè)級(jí):支持產(chǎn)線在線監(jiān)測(cè)與自動(dòng)化對(duì)接 醫(yī)療級(jí):符合 ISO 13485 認(rèn)證,保障臨床精度 科研級(jí):開放 API 接口支持自定義算法 差異化優(yōu)勢(shì): 同時(shí)提供雙技術(shù)方案的廠商(狹縫式 + 相機(jī)式) AI 算法庫(kù)支持光束質(zhì)量預(yù)測(cè)性維護(hù) 模塊化設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)設(shè)備功能動(dòng)態(tài)擴(kuò)展 適合各類激光應(yīng)用中激光光束質(zhì)量測(cè)量與分析。激光光斑分析儀測(cè)量

標(biāo)簽: 光斑分析儀
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