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無干涉光斑分析儀價格

來源: 發(fā)布時間:2025-04-18

維度光電-光斑分析儀的使用 科研場景 將 BeamHere 安裝在飛秒激光實驗平臺,使用觸發(fā)模式同步采集單脈沖光斑。 通過軟件 "時間序列分析" 功能,觀察脈沖序列中光斑形態(tài)變化。 調(diào)用 "光束質(zhì)量評估" 模塊,計算啁啾脈沖的 M2 因子演變曲線。 在 "用戶自定義" 界面添加波長、脈寬等實驗參數(shù),生成帶批注的報告。 工業(yè)場景 在激光切割設備光路中插入 BeamHere,選擇 "在線監(jiān)測" 模式。 實時顯示光斑橢圓率、能量分布均勻性等參數(shù)。 當檢測到光斑漂移超過閾值時,軟件自動觸發(fā)警報并記錄異常數(shù)據(jù)。 每日生成生產(chǎn)質(zhì)量報表,統(tǒng)計良品率與設備穩(wěn)定性趨勢。光斑分析儀培訓服務?維度光電提供線上 + 線下技術培訓,包教包會。無干涉光斑分析儀價格

光斑分析儀

在激光應用領域,高功率光束檢測一直是個難題。傳統(tǒng)面陣傳感器十分靈敏,在每平方厘米約 10μW 的功率水平下就會飽和,常規(guī)激光器功率遠超此強度,不衰減光束不僅無法測量光斑信息,還可能損壞設備。維度光電為此推出 BeamHere 光斑分析儀系列及適配的高功率光束取樣系統(tǒng)。其掃描狹縫式光斑分析儀采用創(chuàng)新的狹縫物理衰減機制,可直接測量近 10W 的高功率激光,無需額外衰減片。在此基礎上,還推出單次取樣與雙次取樣兩款衰減配件,可組裝疊加形成多次取樣系統(tǒng)。與合適衰減片搭配,可測功率超 1000W。單次取樣配件型號 DL - LBA - 1,45° 傾斜設計,取樣率 4% - 5%,有 C 口安裝方式和鎖緊環(huán)結構,能測量任意角度入射激光;雙次取樣配件型號 DL - LBA - 2,內(nèi)部緊湊安裝兩片取樣透鏡,取樣率 0.16% - 0.25%,可應對 400W 功率光束,多面體結構有多個支撐安裝孔位。組合安裝配件可進一步衰減更高功率激光,大衰減程度達 10??。而且其緊湊結構的取樣光程能滿足聚焦光斑測量需求,單次取樣 68mm,雙次取樣 53mm,為各類激光應用場景的檢測提供了方案。維度光斑分析儀軟件光束發(fā)散角測量原理是什么?

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Dimension-Labs 推出 Beamhere 系列光斑分析儀,通過配套通用軟件構建完整光束質(zhì)量評估體系。該系統(tǒng)集成光斑能量分布測繪、發(fā)散角測量及 M2 因子計算三大功能,可有效分析光束整形、聚焦及準直效果。所有參數(shù)均符合 ISO11146 標準,包括光斑寬度、質(zhì)心偏移量和橢圓率等指標。用戶可選配 M2 測試模塊,實現(xiàn)光束傳播方向上的束腰定位、發(fā)散角測量及 M2 因子計算,終通過軟件一鍵生成標準化測試報告。BeamHere把對于激光光束的評價進?量化,并由軟件?鍵輸出測試報告,精確且?效的完成光束分析。

如何使用光斑分析儀 Step 1 準備設備 將 BeamHere 光斑分析儀固定在光具座上,調(diào)整高度使激光束中心與 sensor 靶面重合。用 Type-C 線連接分析儀與電腦,打開 BeamHere 軟件等待設備識別。 Step 2 采集數(shù)據(jù) 開啟激光器預熱 10 分鐘,點擊軟件 "開始采集" 按鈕。實時觀察 2D 成像界面,確保光斑無過曝或欠曝,可通過轉輪調(diào)節(jié)衰減片至合適狀態(tài)。 Step 3 分析參數(shù) 在 "高級分析" 模塊勾選所需參數(shù),軟件自動計算光斑尺寸(±0.5μm 精度)、能量均勻性(CV 值)及光束質(zhì)量因子。3D 視圖支持手勢縮放,便于觀察高階橫模分布。 Step 4 驗證結果 切換至 "歷史記錄" 對比多次測量數(shù)據(jù),使用 "統(tǒng)計分析" 功能生成標準差曲線。若發(fā)現(xiàn)異常,可調(diào)用 "單點測量" 工具檢查特定位置能量值。 Step 5 導出報告 在 "報告模板" 中選擇 "科研版" 或 "工業(yè)版",自動生成帶水印的 PDF 報告,包含光斑圖像、參數(shù)表格、趨勢圖表及 QC 判定結果。發(fā)散較大,怎么測量光束質(zhì)量?

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維度光電致力于激光領域的應用,將展示一系列針對千瓦級高功率、微米級小光斑以及脈沖激光的光束質(zhì)量測量解決方案。在此次展示中,我們將拆解光斑分析儀的全系列產(chǎn)品,深度剖析其技術,從光學原理到智能算法,為您層層揭秘。通過實際操作演示,直觀展現(xiàn)產(chǎn)品在復雜工況下的良好的穩(wěn)定性和超高測量精度。 我們將詳細介紹光斑分析儀的工作原理,包括其光學系統(tǒng)的設計、信號處理技術以及數(shù)據(jù)處理算法等環(huán)節(jié)。同時,我們還將展示光斑分析儀在不同應用場景中的表現(xiàn),例如在工業(yè)生產(chǎn)、科研探索以及質(zhì)量檢測等方面的實際應用案例。通過這些案例,您可以了解到光斑分析儀如何在各種復雜環(huán)境下保持高穩(wěn)定性和高測量精度。 此外,針對工業(yè)生產(chǎn)和科研探索的不同需求,我們還將分享一系列精心打造的一站式完備方案。這些方案不僅包括光斑分析儀,還涵蓋了其他相關設備和軟件,旨在為您提供專業(yè)的技術支持和服務。我們的目標是幫助您突破技術瓶頸,在激光領域取得新的突破,從而推動整個行業(yè)的發(fā)展。半導體行業(yè)激光光束質(zhì)量檢測方案。維度光斑分析儀軟件

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維度光電BeamHere 光斑分析儀選型指南: 1. 光束特性分析 光斑尺寸:亞微米用狹縫式(2.5μm 精度),毫米級用相機式(10mm 量程)。 功率等級:高功率用狹縫式(近 10W),微瓦級用相機式(適配衰減片)。 光束形態(tài):高斯用狹縫式(經(jīng)濟),非高斯用相機式(保留細節(jié))。 脈沖特性:單脈沖用相機式(觸發(fā)同步),連續(xù)/高頻用狹縫式(匹配掃描頻率)。 2. 應用場景適配 工業(yè):高功率用狹縫式,動態(tài)監(jiān)測與校準用相機式,組合方案覆蓋全流程。 醫(yī)療:相機式監(jiān)測能量分布,脈沖激光適配觸發(fā)模式確保精度。 科研:超短脈沖與復雜光束分析用相機式,材料加工優(yōu)化結合狹縫式。 光通信:光纖檢測用相機式,激光器表征用狹縫式高靈敏度測量。 3. 功能擴展規(guī)劃 單一需求:以光斑尺寸與功率為,如高功率 + 亞微米光斑選狹縫式。 復雜場景:雙技術組合(狹縫式 + 相機式),實現(xiàn)全場景覆蓋。 長期規(guī)劃:科研機構選全功能模塊(M2 因子測試、皮秒同步),工業(yè)用戶選基礎款 + 定制接口。無干涉光斑分析儀價格

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