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激光加工光斑分析儀發(fā)展

來源: 發(fā)布時間:2025-04-25

Dimension-Labs 推出 Beamhere 系列光斑分析儀,通過配套通用軟件構(gòu)建完整光束質(zhì)量評估體系。該系統(tǒng)集成光斑能量分布測繪、發(fā)散角測量及 M2 因子計(jì)算三大功能,可有效分析光束整形、聚焦及準(zhǔn)直效果。所有參數(shù)均符合 ISO11146 標(biāo)準(zhǔn),包括光斑寬度、質(zhì)心偏移量和橢圓率等指標(biāo)。用戶可選配 M2 測試模塊,實(shí)現(xiàn)光束傳播方向上的束腰定位、發(fā)散角測量及 M2 因子計(jì)算,終通過軟件一鍵生成標(biāo)準(zhǔn)化測試報告。BeamHere把對于激光光束的評價進(jìn)?量化,并由軟件?鍵輸出測試報告,精確且?效的完成光束分析。光斑分析儀與M2測試模塊組合,實(shí)現(xiàn)對光束傳播方向的發(fā)散角、M2因子、聚焦直徑等測量。激光加工光斑分析儀發(fā)展

光斑分析儀

使用 BeamHere 光斑分析儀測量光斑與光束質(zhì)量的流程 1. 成像原理 BeamHere 采用背照式 CMOS 傳感器,量子效率達(dá) 95%(500-1000nm),配合非球面透鏡組實(shí)現(xiàn)無畸變成像。 2. 信號處理 采集到的模擬信號經(jīng) 16 位 ADC 轉(zhuǎn)換,通過數(shù)字濾波算法消除噪聲,確保弱光信號(SNR>40dB)還原。 3. 參數(shù)計(jì)算 光斑尺寸:基于高斯擬合與閾值分割法 M2 因子:采用 ISO 11146-1:2005 標(biāo)準(zhǔn)的二階矩法 發(fā)散角:通過不同位置光斑尺寸計(jì)算斜率 4. 校準(zhǔn)流程 內(nèi)置波長校準(zhǔn)模塊(400-1700nm),每年需用標(biāo)準(zhǔn)光源進(jìn)行增益校準(zhǔn),確保測量精度 ±1.5%。 5. 數(shù)據(jù)安全 測量數(shù)據(jù)自動加密存儲于本地?cái)?shù)據(jù)庫,支持云端備份,符合 GDPR 數(shù)據(jù)保護(hù)法規(guī)。beam here光斑分析儀原廠如何利用光斑分析儀和 M2 因子測量模塊評估激光質(zhì)量?

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維度光電推出的 BeamHere 光斑分析儀系列,整合掃描狹縫式、相機(jī)式及 M2 測試模塊三大產(chǎn)品線,為激光光束質(zhì)量檢測提供全場景解決方案。 掃描狹縫式光斑分析儀刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù),覆蓋 190-2700nm 寬光譜,支持 2.5μm-10mm 光束直徑測量。0.1μm 超高分辨率可捕捉亞微米級光斑細(xì)節(jié),無需外置衰減片即可直接測量近 10W 高功率激光,適用于激光加工、醫(yī)療設(shè)備等高能量場景。 相機(jī)式光斑分析儀覆蓋 400-1700nm 波段,支持 2D/3D 實(shí)時成像與動態(tài)分析,可測量非高斯光束(如平頂、貝塞爾光束)。獨(dú)特的六濾光片轉(zhuǎn)輪設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)功率范圍擴(kuò)展,可拆卸結(jié)構(gòu)支持科研成像功能拓展。 M2 測試模塊適配全系產(chǎn)品,通過 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)算法測量光束傳播參數(shù)(M2 因子、發(fā)散角、束腰位置等),結(jié)合 BeamHere 軟件實(shí)現(xiàn)一鍵生成報告、多參數(shù)同步分析。系統(tǒng)以模塊化設(shè)計(jì)滿足光通信、醫(yī)療、工業(yè)等領(lǐng)域的光斑檢測需求,兼顧實(shí)驗(yàn)室與產(chǎn)線在線監(jiān)測場景。

維度光電的BeamHere光斑分析儀系列品類齊全。從精細(xì)的微小光斑分析到大面積的宏觀光斑探測,從**能量到高能量密度的光斑測量,無一不在其覆蓋范圍之內(nèi)。無論是科研實(shí)驗(yàn)中對微小光斑現(xiàn)象的,需要超高分辨率的光斑分析;還是工業(yè)生產(chǎn)里對大功率激光加工光束質(zhì)量的把控,涉及高能量密度光斑的監(jiān)測,BeamHere光斑分析儀都能出色勝任。 其應(yīng)用方案更是豐富多樣。在激光加工領(lǐng)域,可助力企業(yè)優(yōu)化切割、焊接工藝,確保光斑能量均勻分布,提高加工精度與效率;于生物醫(yī)學(xué)成像方面,能夠幫助科研人員清晰解析光學(xué)成像系統(tǒng)中的光斑特性,提升成像質(zhì)量與診斷性;在光通信行業(yè),為光信號的傳輸質(zhì)量檢測提供有力保障,確保數(shù)據(jù)傳輸?shù)母咚倥c穩(wěn)定。相機(jī)式光斑分析儀都有哪些廠家?

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Dimension-Labs 針對高功率激光檢測難題推出 BeamHere 大功率光束取樣系統(tǒng),突破傳統(tǒng)面陣傳感器在 10μW/cm2 飽和閾值的限制,通過創(chuàng)新狹縫物理衰減機(jī)制實(shí)現(xiàn) 10W 級激光直接測量,配合可疊加的單次(DL-LBA-1)與雙次(DL-LBA-2)取樣配件形成多級衰減方案,衰減達(dá) 10??,可測功率超 1000W。該系統(tǒng)采用 45° 傾斜設(shè)計(jì)的單次取樣配件支持 4%-5% 取樣率,雙次配件內(nèi)置雙片透鏡實(shí)現(xiàn) 0.16%-0.25% 取樣率,均配備 C 口通用接口和鎖緊環(huán)結(jié)構(gòu),支持任意角度入射光束檢測。其優(yōu)化設(shè)計(jì)的 68mm(單次)和 53mm(雙次)取樣光程確保聚焦光斑完整投射至傳感器,解決傳統(tǒng)外搭光路光程不足問題,緊湊結(jié)構(gòu)減少 70% 空間占用。系統(tǒng)覆蓋 190-2500nm 寬光譜范圍,通過 CE/FCC 認(rèn)證,可在 - 40℃至 85℃環(huán)境穩(wěn)定工作,已成功應(yīng)用于工業(yè)激光加工(熱影響區(qū)≤30μm)、科研超快激光(皮秒脈沖分析)及醫(yī)療設(shè)備校準(zhǔn)(能量均勻性誤差<2%),幫助客戶提升 3 倍檢測效率并降** 30% 檢測成本。有沒有一體化的光斑分析儀和 M2 因子測量模塊產(chǎn)品?國產(chǎn)化光斑分析儀軟件

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光斑分析儀通過光學(xué)傳感器將光斑能量分布轉(zhuǎn)化為電信號,結(jié)合算法分析實(shí)現(xiàn)光束質(zhì)量評估。其傳感器采用量子阱材料設(shè)計(jì),響應(yīng)速度達(dá) 0.1μs,可捕捉皮秒級激光脈沖。Dimension-Labs 產(chǎn)品采用雙技術(shù)路線:掃描狹縫式通過 0.1μm 超窄狹縫逐行掃描,實(shí)現(xiàn) 2.5μm 至 10mm 光斑的高精度測量,配合動態(tài)增益補(bǔ)償技術(shù),在千萬級功率下仍保持線性響應(yīng);相機(jī)式則利用面陣傳感器實(shí)時成像,支持 200-2600nm 全光譜覆蓋,像素分辨率達(dá) 1280×1024,動態(tài)范圍達(dá) 60dB。全系標(biāo)配 M2 因子測試模塊,結(jié)合 BeamHere 軟件,可自動計(jì)算發(fā)散角、橢圓率等參數(shù),并通過高斯擬合算法將測量誤差控制在 ±0.8% 以內(nèi),終生成符合 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)的測試報告。激光加工光斑分析儀發(fā)展

標(biāo)簽: 光斑分析儀
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